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RIE-800iPC 等離子體刻蝕設備

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳市矢量科學儀器有限公司
  • 品牌 SAMCO
  • 型號 RIE-800iPC
  • 產(chǎn)地 日本
  • 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
  • 更新時間 2025/6/5 13:44:47
  • 訪問次數(shù) 476

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深圳市矢量科學儀器有限公司是集半導體儀器裝備代理及技術服務的高新技術企業(yè)。

致力于提供半導體前道制程工藝裝備、后道封裝裝備、半導體分析測試設備、半導體光電測試儀表及相關儀器裝備維護、保養(yǎng)、售后技術支持及實驗室整體服務。

公司目前已授實用新型權利 29 項,軟件著作權 14 項,是創(chuàng)新型中小企業(yè)、科技型中小企業(yè)、規(guī)模以上工業(yè)企業(yè)。










冷熱臺,快速退火爐,光刻機,納米壓印、磁控濺射,電子束蒸發(fā)

1. 產(chǎn)品概述

高密度等離子體蝕刻系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室,是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng),具有優(yōu)良的工藝重復性和穩(wěn)定性。

2. 設備用途/原理

GaN、GaAs、InP等化合物半導體的高精度加工。SiC、SiO?的高速加工。蝕刻鐵電材料(PZT、BST、SBT、SBT)、電材料(Pt、Au、Ru、Al)和其他難以蝕刻的材料。複合式半導體晶片的等離子切割和薄型化。

3. 設備特點

新的ICP源 "HSTC™: Hyper Symmetrical Tornado Coil"??筛咝Х€(wěn)定地應用高射頻功率(2千瓦以上),并實現(xiàn)良好的均勻性。大流量排氣系統(tǒng),排氣系統(tǒng)直接連接到反應室,可以實現(xiàn)從小流量和低壓范圍到大流量和高壓范圍的廣泛工藝窗口。下電升降機構(gòu)晶片和等離子體之間的距離經(jīng)過優(yōu)化,以確保良好的平面內(nèi)均勻性。易于維護的設計,TMP(渦輪分子泵)集成在設備中,便于更換。


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