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Haasrode® Avior® A 電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
- 公司名稱(chēng) 深圳市矢量科學(xué)儀器有限公司
- 品牌 魯汶
- 型號(hào) Haasrode® Avior® A
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
- 更新時(shí)間 2025/6/5 21:31:59
- 訪問(wèn)次數(shù) 630
產(chǎn)品標(biāo)簽
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電容耦合等離子體刻蝕（CCP）設(shè)備
1. 產(chǎn)品概述：
CCP腔室適用于制造微納結(jié)構(gòu)的等離子刻蝕技術(shù)。在反應(yīng)離子刻蝕過(guò)程中，等離子體中會(huì)包含大量的活性粒子，與表面原子產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，生成可揮發(fā)產(chǎn)物后，隨真空抽氣系統(tǒng)排出。魯汶儀器的 Haasrode® Avior® A 在性?xún)r(jià)比和空間利用率上優(yōu)點(diǎn)突出，可提供各種不同材料的刻蝕解決方案。
單腔室電容耦合等離子體（CCP）機(jī)適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝可用于6英寸及以下晶圓
2. 系統(tǒng)特性
單腔室電容耦合等離子體（CCP）機(jī)臺(tái)
適用于光刻膠殘膠去除（打底膜）、介質(zhì)刻蝕等工藝
可用于6英寸及以下晶圓
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