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Wintech ICP-200 微蕓電感耦合等離子體刻蝕機(jī)

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干法刻蝕電感耦合半導(dǎo)體

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     公司創(chuàng)始人與核心團(tuán)隊成員均源自國內(nèi)頭部半導(dǎo)體設(shè)備制造供應(yīng)商刻蝕部門研發(fā)團(tuán)隊。自2008年起,他們投身于16nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)工作,并成功將其推向市場。隨后,作為關(guān)鍵成員,再度參與了12寸14nm刻蝕設(shè)備的研發(fā)并實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

在市場需求的推動下,公司組建了一支由半導(dǎo)體設(shè)備制造領(lǐng)域擁有豐富經(jīng)驗(yàn)的技術(shù)人物及設(shè)計精英構(gòu)成的骨干團(tuán)隊,利用在半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域的豐富經(jīng)驗(yàn)和深厚底蘊(yùn),首先聚焦8英寸ICP、CCP、TSV設(shè)備,致力于在SiC、IGBT、介質(zhì)材料等關(guān)鍵領(lǐng)域內(nèi),形成全系列更可靠、更貼合用戶需求的高性能產(chǎn)品。



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上海微蕓半導(dǎo)體科技有限公司生產(chǎn)的電感耦合等離子體干法刻蝕機(jī)(ICP)是一款針對工藝節(jié)點(diǎn)與生產(chǎn)線各種關(guān)鍵應(yīng)用的大規(guī)模量產(chǎn)型設(shè)備,其性能亦可在各大高校及科研機(jī)構(gòu)展示其科研屬性。

設(shè)備8英寸向下兼容,適用于各種刻蝕需求,具備優(yōu)異的刻蝕均勻性和快速刻蝕速率,確保了高效、精確的刻蝕工藝結(jié)果。同時,高選擇比和高各向異性使刻蝕過程更為精準(zhǔn),減少損傷。專業(yè)的機(jī)械設(shè)計與優(yōu)化的操作軟件使該設(shè)備操作簡便、安全,且工藝穩(wěn)定、重復(fù)性、均勻性佳。此外,高斷面輪廓可控性保證了刻蝕表面的平整光滑。該系統(tǒng)可以根據(jù)客戶要求選擇氣體種類進(jìn)行配置。



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