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CY-MS500S-2TA1S 離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀

參考價(jià) 50000
訂貨量 ≥1
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號(hào) CY-MS500S-2TA1S
  • 產(chǎn)地
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間 2024/12/18 15:41:17
  • 訪問次數(shù) 114

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州市開發(fā)區(qū),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)和銷售為一體的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向。

鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的研發(fā)團(tuán)隊(duì)?wèi){借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;

其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。

近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場獲得業(yè)界好評(píng)。

如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的誠信、實(shí)力和產(chǎn)品質(zhì)量獲得業(yè)界的認(rèn)可。歡迎各界朋友蒞臨參觀、指導(dǎo)和業(yè)務(wù)洽談。

 

 

 

 

磁控濺射鍍膜儀,熱蒸發(fā)鍍膜儀,勻膠機(jī)旋涂儀,熔煉爐,涂布機(jī),放電等離子燒結(jié)爐,靜電紡絲機(jī),金剛石線切割機(jī),RTP退火爐,晶體生長爐,管式爐,CVD氣相沉積,氣氛爐,馬弗爐,熱解噴涂,等離子清洗機(jī),

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 價(jià)格區(qū)間 5萬-10萬
應(yīng)用領(lǐng)域 地礦,能源,建材/家具,電子/電池,鋼鐵/金屬

簡單介紹:

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀主要用于制備各種導(dǎo)電薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、光學(xué)薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預(yù)處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質(zhì)襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜

用于制造各種光學(xué)元件上的增透膜、反射膜、濾光膜等。如在鏡片上鍍制增透膜可減少反射光,增加透光率,提高成像質(zhì)量;在激光反射鏡上鍍制高反射率膜,能有效提高激光的反射效率。

在新材料的研發(fā)過程中,可利用離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀制備各種新型薄膜材料,研究其物理、化學(xué)和光學(xué)等性能,為新材料的開發(fā)和應(yīng)用提供基礎(chǔ)數(shù)據(jù)支持。

該儀器可用于研究材料的表面改性、界面特性等表面科學(xué)問題。通過控制鍍膜工藝參數(shù),制備不同結(jié)構(gòu)和性能的薄膜,深入了解材料表面與薄膜之間的相互作用,為表面工程技術(shù)的發(fā)展提供理論依據(jù)。

技術(shù)參數(shù):


使用條件

環(huán)境溫度

5℃~40℃

電源

380V

功率

≤20KW

水壓

≤2.5bar

真空室尺寸

蒸發(fā)室尺寸

φ500×H500(㎜)

過渡倉庫

φ280×H300(㎜)

電子槍

新型電子槍1套,6穴坩堝

離子源

考夫曼離子源K08一套

樣品轉(zhuǎn)盤

樣品尺寸:≤φ150mm,樣品可旋轉(zhuǎn),也可上下升降調(diào)節(jié)樣品到電子槍距離(樣品托形狀按用戶要求設(shè)計(jì)),加熱溫度≤500℃

系統(tǒng)真空度

極限真空

經(jīng)12~24小時(shí)烘烤,連續(xù)抽氣≤5x10-5Pa


抽氣速率

從大氣開始40分鐘內(nèi)真空度≤5x10-4Pa


系統(tǒng)漏率

整機(jī)漏率≤1×10-8Pa.L/s 停泵關(guān)機(jī)12小時(shí)后,測量真空室真空度≤10Pa

抽真空系統(tǒng)

TY1200分子泵+機(jī)械泵(VRD-30)系統(tǒng),并設(shè)置旁路抽氣

鍍膜監(jiān)測

采用TM160膜厚儀進(jìn)行監(jiān)測

鍍膜厚度的不均勻度

≤3%

離子源電子束蒸發(fā)鍍膜儀




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