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VPS-RF60 中型真空等離子清洗機

具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 深圳深光達科技有限公司
  • 品牌 其他品牌
  • 型號
  • 產(chǎn)地 深圳
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2025/6/22 21:37:01
  • 訪問次數(shù) 99

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我們注于等離子(PLASMA)清洗工藝技術(shù)和相關裝備的研發(fā)生產(chǎn),核心技術(shù)源自歐美二十年等離子體行業(yè)經(jīng)驗。公司核心團隊來自中科院等離子體物理研究所、德國Diener、中國科學技術(shù)大學、北京大學等國內(nèi)科研機構(gòu),其開發(fā)的等離子清洗裝備已廣泛應用于高校、半導體、汽車、電子行業(yè)、3C行業(yè)、印刷行業(yè)生物等行業(yè)域。深光達科技成立至已為清華大學、西安交通大學、比亞迪、蘭州大學、深圳大學、香港大學、提供過等離子處理設備和解決方案, 我們將不斷為材料表面處理開發(fā)創(chuàng)新方案,致力于為用戶提供等離子表面處理與檢測整體解決方案。深圳深光達科技有限公司深耕等離子技術(shù)域十余載,表面處理解決方案服務商。公司自主研發(fā)的真空、大氣常壓及微波等離子清洗設備,精準清洗與活化,設備連續(xù)運行穩(wěn)定性達99.6%以上,通過ISO 9001/14001雙體系認證。其低溫真空等離子去膠機**在半導體封裝環(huán)節(jié)實現(xiàn)每小時300片晶圓的量產(chǎn)處理,刻蝕均勻性誤差<3%,助力客戶良品率提升20%+。針對汽車內(nèi)飾、醫(yī)療導管等復雜曲面,**常壓旋轉(zhuǎn)噴槍系統(tǒng)**可完成360°處理,表面張力值穩(wěn)定提升至72mN/m以上?,F(xiàn)已在富士康、比亞迪等200+企業(yè)產(chǎn)線中實現(xiàn)7×24小時不間斷作業(yè),設備MTBF突破8000小時,以航空品質(zhì)重新定義工業(yè)清洗標準。主營產(chǎn)品有等離子清洗機,等離子去膠機,實驗型真空等離子清洗機,真空等離子清洗機,低溫等離子清洗機,大氣等離子清洗機,等離子表面處理機,等離子刻蝕機,晶圓清洗機,反應離子刻蝕機,旋轉(zhuǎn)型真空等離子處理儀,真空等離子清洗儀

 

 

等離子清洗機,等離子清洗器,實驗型真空等離子清洗機,真空等離子清洗機,低溫等離子清洗機,大氣等離子清洗機,等離子表面處理機,等離子刻蝕機,晶圓清洗機,旋轉(zhuǎn)型真空等離子處理儀,真空等離子清洗儀

產(chǎn)地類別 國產(chǎn) 應用領域 綜合

VPS-RF60 中型真空等離子清洗機簡介:

VPS-RF60是一款中型真空等離子清洗機,通過PLC提供穩(wěn)定的過程控制,設備運行的實時參數(shù)通過觸摸顯示屏直觀呈現(xiàn),軟件控制系統(tǒng),操作簡單,能接控制設備及設定各種清洗工藝曲線,并根據(jù)工藝不同進行設定、修改、存儲、調(diào)用;軟件自帶分析功能,能對工藝曲線進行分析。軟件控制系統(tǒng)自動的實時記錄清洗工藝參數(shù)及溫度曲線、時間、報警相關數(shù)據(jù),保證產(chǎn)品清洗工藝的可追溯性。13.56MHz射頻電源與自動匹配系統(tǒng),具有優(yōu)異的穩(wěn)定性與可重復性,多樣化可選氣體配置,靈活的電極結(jié)構(gòu)設置與優(yōu)化的氣體饋入、分布方案滿足不同類型產(chǎn)品的清洗工藝要求。


   

VPS-RF60 中型真空等離子清洗機


VPS-RF60 中型真空等離子清洗機特點:歐美放電技術(shù),專業(yè)型放電結(jié)構(gòu),科學仿真等離子體分布均勻,處理效果均勻


產(chǎn)品應用:去除表面有機物、表面油污清洗、提高表面親水性、改善表面粘接性、提高表面附著力、提高綁定性能


產(chǎn)品參數(shù):

型號

VPS-RF60

等離子頻率

13.56MHz 自動阻抗匹配

工作真空度

10-100Pa

功率

0-600W連續(xù)可調(diào)

腔體材質(zhì)

進口級316L不銹鋼/航空鋁合金(可選)

腔體尺寸

400(W)*450(D)*380(H)mm

腔體容積

69L

單層有效處理面積

W365mm x D375mm

氣路數(shù)量

2路氣體,支持氧氣,氬氣,氮氣,氫氣等(腐蝕性氣體需定制)

處理層數(shù)

6層(可定制)

控制方式

PLC+觸摸屏

真空泵

油泵/干泵(可選)

電源

AC380V,50/60Hz

外形尺寸

900mm(L)×1100mm(W) ×1800mm(H)




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