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帶預(yù)真空室的化學氣相沉積設(shè)備PX 1407
等離子沉積設(shè)備PX 1407
QBT-T雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)PX 3075
Mini Desktop ALDPALD廠家PX 3075
GM10/100/1000粉末ALD廠家PX 3075
Mini DesktopALDPX 3075
GM10/100/1000原子層沉積設(shè)備廠家PX 3075
Mini Desktop ALD原子層沉積系統(tǒng)廠家PX 3075
Mini Desktop ALD桌面式原子層沉積系統(tǒng)PX 3075
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QBT-T等離子體原子層沉積PX 3075
NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統(tǒng)PX 2449
NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備PX 2449
NLD-3500(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 2449
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NLD-4000(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 2449
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)PX 2449
T-ALD維意真空ALD原子層沉積鍍膜設(shè)備支持定制PX 0
Partector 2納米顆粒探測器-氣溶膠設(shè)備(德國)PX 3007
磁控濺射鍍膜機PX 3007
微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)PX 0
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 3007
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 3007
PICOSUN R-200標準型ALD系統(tǒng)PX 1582
原子團簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
PICOSUN ALD原子層沉積系統(tǒng)PX 2490
ALD R-200 ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)-高級版PX 2490
ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200基礎(chǔ)版PX 2490
定制樣品傳送腔體PX 4034
脈沖激光沉積靶臺PX 4034
脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路PX 4034
單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 4034
雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)PX 4034
SENTECH二維材料刻蝕PX 4034
ALD實時監(jiān)測儀RTMPX 4034
SENTECH原子層沉積設(shè)備PX 4034
UHV ALD超高真空集成原子層沉積系統(tǒng)PX 0
Thermal-ALD E300S大尺寸原子層沉積系統(tǒng)PX 0
PA粉體包裹原子層沉積系統(tǒng)PX 0
Glove Box Integrated手套箱集成原子層沉積系統(tǒng)PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
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組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
AT810 經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備
AT610 經(jīng)濟性原子層沉積設(shè)備
AT650/850T 臺式熱原子層沉積設(shè)備
AT650/850P 臺式等離子原子層沉積設(shè)備
AT410 經(jīng)濟型原子層沉積設(shè)備
AT200M 經(jīng)濟型原子層沉積設(shè)備
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
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賽默飛色譜及質(zhì)譜
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