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Tergeo桌面等離子清洗機(jī)PX 3365
VP-RS20等離子體刻蝕機(jī)PX 4402
PLUTO-E100科研型等離子體干法刻蝕(ICP/CCP)系統(tǒng)PX 4983
Table Top 4Plasmionique微波等離子MWPlasma MWPECVDPX 3408
GIGAbatch批量晶圓處理等離子系統(tǒng)PX 2000
森泰克刻蝕機(jī)Etchlab 200PX 1443
CGST3100全自動干法去膠機(jī)PX 1850
Plasmalab 133牛津儀器 RIE 半導(dǎo)體刻蝕機(jī)PX 7624
SPB5/plusRIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PX 4311
TASLimage固體徑跡蝕刻測量系統(tǒng)PX 3176
PLASMA大氣常壓等離子處理機(jī)器PX 1961
FPTOR-RIE600W反應(yīng)離子刻蝕機(jī)系統(tǒng)PX 3422
LT-400G過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用PX 2715
Oxford RIE反應(yīng)離子刻蝕機(jī)PlasmaPro 80PX 2992
RIE200/RIE200plus等離子刻蝕機(jī)PX 3030
MKS AX7690LAM-23 RPSMKS Revolution RPS AX7690 遠(yuǎn)程等離子源PX 1876
離子污染測定儀PX 2383
SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī)PX 3365
Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī)PX 3365
EM-KLEEN等離子體清洗機(jī)PX 3365
Tergeo-EM TEM/SEM 等離子體清洗機(jī)PX 3365
Tergeo-Pro桌面等離子清洗機(jī)PX 3365
Tergeo-Plus桌面等離子清洗機(jī)PX 3365
TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室PX 3365
TEM 樣品架真空泵站PX 3365
Ion Source離子源PX 3365
Gas Mixers氣體混配器PX 3365
Semi-KLEEN Sapphire藍(lán)寶石等離子體清洗機(jī)PX 3365
VP-RS15等離子刻蝕機(jī)PX 4402
cmvacICP等離子刻蝕機(jī) 干法刻蝕設(shè)備PX 0
WINETCHCCP等離子刻蝕機(jī)PX 4983
ICP等離子刻蝕機(jī)PX 4983
PICO德國Diener等離子清洗機(jī)PX 3408
FEMTO德國Diener等離子清洗機(jī)PX 3408
Atto德國Diener等離子清洗機(jī)PX 3408
ZEPTO德國Diener等離子清洗機(jī)PX 3408
80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)PX 2000
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統(tǒng)PX 2000
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 2000
PTP-300等離子清洗和加熱機(jī)PX 2000
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
Ion Source離子源
Gas Mixers氣體混配器
TEM cube多用途樣品清潔及儲存腔室
TEM 樣品架真空泵站
SEMI-KLEEN UHV等離子體清洗機(jī)
Semi-KLEEN Sapphire藍(lán)寶石等離子體清洗機(jī)
Semi-KLEEN Quartz石英等離子體清洗機(jī)
EM-KLEEN等離子體清洗機(jī)
Tergeo桌面等離子清洗機(jī)
等離子體刻蝕機(jī)
大氣常壓等離子處理機(jī)器
過程臭氧分析儀半導(dǎo)體干法清洗設(shè)備專用
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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