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Gas Mixers氣體混配器PX 3145
cmvacICP等離子刻蝕機 干法刻蝕設(shè)備PX 0
WINETCHCCP等離子刻蝕機PX 5005
ICP等離子刻蝕機PX 5005
80 Plus條形等離子清潔系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPen™大氣式等離子清潔系統(tǒng)PX 1950
SENTECH 集群系統(tǒng)等離子刻蝕集群系統(tǒng)PX 1950
PTP-300等離子清洗和加熱機PX 1950
SENTECH SI 500 CCPRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 591等離子刻蝕系統(tǒng)RIEPX 1950
SENTECH Etchlab 200 RIERIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 500 C低溫ICP-RIE等離子體刻蝕系統(tǒng)PX 1950
UC100-SE紫外臭氧清洗機PX 1950
PT500等離子清洗機PX 1950
PlasmaPro 100 Polaris單晶圓刻蝕系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 Cobra ICP電感耦合等離子體刻蝕PX 1950
EIS-1500離子束刻蝕機PX 1950
EIS-200ERP離子束刻蝕機PX 1950
Shale® C 系列8英寸電感耦合等離子體化學氣相沉積設(shè)備PX 1950
Haasrode® Avior® A電容耦合等離子體刻蝕(CCP)設(shè)備PX 1950
Pishow® D 系列8英寸電感耦合等離子體-深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
Pishow® A 系列8英寸電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
Kessel® Pishow® M8英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1950
Tebaank® Pishow® P8英寸硅刻蝕設(shè)備PX 1950
Herent® Chimera® M12英寸金屬刻蝕設(shè)備PX 1950
Herent® Chimera® A12英寸硬掩膜刻蝕設(shè)備PX 1950
Ganister™ A 系列8英寸離子束沉積(IBD)設(shè)備PX 1950
Lorem® A 系列8英寸離子束塑形(IBS)設(shè)備PX 1950
Pangea® A 系列12英寸離子束塑形(IBS) 設(shè)備PX 1950
LMEC-30012英寸特種金屬膜層刻蝕設(shè)備PX 1950
KS-S300-E單片濕法刻蝕機PX 1950
KS-S300-SR單片清洗機PX 1950
KS-CM300/200單片式化學清洗機PX 1950
KS-CF300/200-8SR全自動SCRUBBER清洗機PX 1950
Etchlab 200開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SI 500 ICP-RIE等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
SI 500 C等離子體蝕刻系統(tǒng)PX 1950
PlasmaPro 100 ALE原子層刻蝕PX 1950
NLD-5700干法刻蝕裝置PX 1950
APIOS NE-950EX干法刻蝕設(shè)備PX 1950
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
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干法工藝設(shè)備
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等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)系統(tǒng)
ELIONIX離子束刻蝕機
ELIONIX 離子束刻蝕機
等離子刻蝕機
SENTECH等離子刻蝕 集群系統(tǒng)
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
Ion Source離子源
等離子體刻蝕機
日本SAMCO RIE等離子蝕刻設(shè)備
過程臭氧分析儀半導體干法清洗設(shè)備專用
Tergeo桌面等離子清洗機
上海衡平儀器儀表有限公司
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