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超高分辨率電子束光刻EBL
Ultrahigh Resolution EB Lithography (CABL-UH series)

納米光刻技術(shù)在微納電子器件制作中起著關(guān)鍵作用,而電子束光刻在納米光刻技術(shù)制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司為21世紀(jì)先進(jìn)納米科技提供 的電子束納米光刻（EBL）系統(tǒng)，或稱電子束直寫（EBD）、電子束爆光系統(tǒng)。 

超高分辨率的電子束光刻CABL-UH系列的型號包括：
CABL-UH90 (90keV) 、CABL-UH110 (110keV) 、CABL-UH130 (130keV)

技術(shù)參數(shù)：
加速電壓：高130keV
單段加速能力達(dá)到130keV，盡量減少電子槍的長度
超短電子槍長度，無微放電
電子束直徑＜1.6nm
小線寬＜7nm
雙熱控制，實(shí)現(xiàn)超穩(wěn)定直寫能力