大塚電子從其創(chuàng)立之初就以光散射技術和分離技術為基礎，這些技術不僅是公司的技術根源，也是新材料分析的核心技術并以這些技術開發(fā)、生產(chǎn)和銷售好的產(chǎn)品。利用光散射技術的產(chǎn)品是大塚電子歷史最悠久的產(chǎn)品系列之一。在許多大學、機構和企業(yè)中，做為功能材料和新材料物性評估測量設備被高度評價。在接受各方面的建議和幫助下，不斷開發(fā)絕對分子量測定、微粒子粒徑測定和電位測定設備，并在各應用領域進行改進。同時，從基礎研究到質量控制的用途不斷擴大，在這一領域已經(jīng)成為日本好的國產(chǎn)制造商，獲得了高的信任。

利用光散射作為新材料分析的核心技術，并將其應用于納米技術領域的物性測量。以粒子大小、電位和分子量的測量方法作為基準，拓展新材料、生命科學、高分子化學，以及半導體和醫(yī)藥等領域的應用。

Otsuka大塚 多通道光譜儀高機型MCPD-9800為瞬間多通道分光器MCPD系列的高級機型，與本公司以往的機型相比，實現(xiàn)了寬動態(tài)范圍、低雜散光功能、以及更高速、更高再現(xiàn)性。適于高精度紫外定量評估、量子效率測量、在線測量為首的所有高精度測光系統(tǒng)。分光測量的世界得到進一步擴展。

具有寬動態(tài)范圍，適合于全光束測量。

Otsuka大塚 多通道光譜儀高機型搭載低雜散光功能，適用于UV評估和量子效率評估。與本公司舊機型相比，雜散光率只有五分之一。

最短5ms到65s*的曝光時間，適合于微弱光測量、高速測量、在線測量等廣泛的測量需求。

采用Scramble加擾光纖*2，實現(xiàn)高再現(xiàn)性。

輕量、緊湊的豎立式設計，與本公司以往舊機型相比，體積降低約60%!

發(fā)射光譜測量

透射/吸收光譜測量

反射光譜測量

熒光測量

物體顏色測量

光源顏色測量（色度、亮度、照度）

膜厚測量

等離子體發(fā)射光譜測量

各類日系工業(yè)品:,SSD西西蒂(離子風扇)、AND愛安得（電子天平）、SAN-EI三英(點膠閥） HOYA光源,KURABO脫泡機,USHIO牛尾照度計,Tsubosaka壺坂電機,IMV愛睦威,PISCO匹士克接頭,hakko八光電機,lambda拉姆達膜厚儀,MUSASHI武藏,SAKURAI櫻井,aitec艾泰克,otsuka大塚（膜厚儀、粒度儀）,Hitachi日立（掃描電鏡）,MIKASA米卡薩（旋涂設備、顯影）、POLARION普拉瑞、AITEC艾泰克（檢查光源）、Iwasaki巖崎、OTSUKA大塚電子（光學膜厚儀）、KOSAKA小坂（臺階儀）、HORIBA堀場儀器（分析儀）、SIBATA柴田科學（環(huán)境測定）、TORAY東麗濃度儀（氧氣分析儀）、yamada山田鹵素強光燈、CEDAR思達