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壓電響應(yīng)力顯微術(shù)（PFM） 參考價：面議
利用壓電響應(yīng)力模式，我們能夠通過針尖對樣品施加高偏壓值（上至220 V，在MFP-3D Infinity上，上至150 V），以便對壓電材料（包括鐵電體和多鐵性...
Ztherm Modulated Thermal Analysis 參考價：面議
Ztherm provides the most sensitive and highest resolution melting and glass tran...
光伏照明 參考價：面議
利用Asylum Research MFP-3D Infinity原子力顯微鏡的光伏(PV)選項，可以實現(xiàn)自定義的底側(cè)樣品照明，以實現(xiàn)高分辨率的電學性能表征。光...
WITec Suite FIVE 拉曼控制、測量與分析軟件 參考價：面議
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UHTS 超高通量光譜儀 參考價：面議
WITec 拉曼顯微系統(tǒng)均使用超高光通量光譜儀 (UHTS) 進行操作，UHTS 是專為高速、高分辨率拉曼成像而研發(fā)的。UHTS 系列包括六種型號、多種焦長，從...
TruePower 測定功率毫瓦級的全自動激光 參考價：面議
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TrueSurface – 形貌拉曼成像 參考價：面議
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TrueMatch 拉曼光譜數(shù)據(jù)庫管理軟件 參考價：面議
TrueMatch 是用于存取及開發(fā)拉曼光譜數(shù)據(jù)庫的創(chuàng)新軟件包。借助TrueMatch，用戶不僅可以利用現(xiàn)有拉曼數(shù)據(jù)庫，檢索出特征光譜所對應(yīng)的材料信息，還可以創(chuàng)...
TCSPC 時間相關(guān)單光子計數(shù) 參考價：面議
StrobeLock 是 WITec alpha 300 顯微鏡系列的擴展組件之一，基于時間相關(guān)單光子計數(shù)（TCSPC）技術(shù)來實現(xiàn)樣品熒光壽命測量。在超快脈沖激...
Shasta Series X-ray Tube Power Supply 參考價：面議
Oxford Instruments Shasta series power supply features a robust design that has ...
Scanning Capacitance Microscopy (SCM): Accessory f... 參考價：面議
Scanning Capacitance Microscopy (SCM) is a nanoelectrical imaging technique avai...
樣品定位和掃描平臺 參考價：面議
WITec 提供手動、全自動機械平臺和高精確陶瓷壓電平臺以適用不同的樣品和應(yīng)用要求。例如：
Sample Mounts 參考價：面議
A variety of sample mounts are available for MFP-3D AFMs in addition to the stan...
RISE – Raman-SEM 聯(lián)用顯微鏡 參考價：面議
世界集成的拉曼成像與掃描電子顯微鏡聯(lián)用系統(tǒng)RISE 顯微鏡是一款新型聯(lián)用顯微鏡，它將 SEM 和共聚焦拉曼成像結(jié)合在一起。通過 RISE 顯微鏡，可以將超微結(jié)構(gòu)...
拉曼濾波片組 參考價：面議
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PlasmaPro 80 PECVD 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)快...
Programming Interface – 測量工作流程定制 參考價：面議
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PlasmaPro 800 RIE 參考價：面議
PlasmaPro 800系列是結(jié)構(gòu)緊湊、且使用方便的直開式系統(tǒng)，該系統(tǒng)為大批量晶圓和300mm晶圓上的反應(yīng)離子蝕刻（RIE）工藝提供了靈活的解決方案。大尺寸的...
PlasmaPro 80 RIE 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小尺寸且使用方便的直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能確保工藝性能。直開式設(shè)計可實...
PlasmaPro 800 PECVD 參考價：面議
The PlasmaPro 800 offers a flexible solution for Plasma Enhanced Chemical Vapour...
PlasmaPro 80 ICPCVD 參考價：面議
PlasmaPro 80是一種結(jié)構(gòu)緊湊且使用方便的小型直開式系統(tǒng)，可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝性能。直開式設(shè)計可實現(xiàn)...
PlasmaPro 80 ICP 參考價：面議
PlasmaPro 80 ICP是一種結(jié)構(gòu)緊湊、小型且使用方便的直開式系統(tǒng)，可提供多種刻蝕解決方案。 它易于放置，便于使用，且能夠確保工藝質(zhì)量。直開式設(shè)計允許快...
PlasmaPro 100 PECVD 參考價：面議
設(shè)計PECVD工藝模式的目的是要在控制薄膜性能，如折射率、應(yīng)力、電學特性和濕法化學刻蝕速率的前提下，生產(chǎn)均勻性好且沉積速率高的薄膜。詢價 增加到詢價列表 在詢價...
PlasmaPro 1000 參考價：面議
大面積刻蝕與沉積的量產(chǎn)型解決方案詢價 增加到詢價列表 在詢價列表中查看此產(chǎn)品
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