可以濺射各種金屬的實(shí)驗(yàn)室沉積裝置MSP-40T介紹

來源：秋山科技（東莞）有限公司 2023年03月20日 16:18

可以濺射各種金屬的實(shí)驗(yàn)室沉積裝置MSP-40T介紹

它是一種多功能型號(hào)，可以濺射各種金屬，包括流行的鎢。它用于從表面觀察到實(shí)驗(yàn)應(yīng)用的廣泛領(lǐng)域。高純度真空區(qū)域?qū)τ谥苽涞臉悠分陵P(guān)重要。 MSP-40T 能夠因渦輪泵排氣而在真空區(qū)域飛濺。

裝置	特征	目標(biāo)金屬
	MSP-40T 是一種多用途的實(shí)驗(yàn)室沉積裝置。新型號(hào)配備了全自動(dòng)薄膜沉積功能。高效的薄膜沉積，排氣速度快，操作簡(jiǎn)單。各種金屬薄膜可以通過強(qiáng)磁場(chǎng)沉積。渦輪泵和隔膜泵可實(shí)現(xiàn)清潔和高真空。是一款性價(jià)比低廉的設(shè)備。薄膜沉積靶材：金、銀、鉑、金-鈀、鈀、銅、鉻、鈀、鎳、鐵、鎢、鉬、鉬、鈦、鋁、ITO等。對(duì)于未列出的目標(biāo)，請(qǐng)聯(lián)系我們。

對(duì)于形狀復(fù)雜且超高放大倍率觀察200，000倍或以上的樣品，請(qǐng)考慮具有出色環(huán)繞性和細(xì)顆粒的鋨鍍膜機(jī)。

Os：鋨
由于它被包覆在氣體氣氛中，因此可以很好地包裹樣品，并且粒徑非常小。
主要用于涂覆生物樣品和具有三維結(jié)構(gòu)的樣品。

W：鎢
顆粒體系與鋨相當(dāng)，但由于薄膜沉積方法的差異，其環(huán)繞性不如鋨鍍膜機(jī)。

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