T4核酸內(nèi)切酶V（T4 Endonuclease V），也被稱為T4 PDG（嘧啶二聚體糖基酶），是一種具有雙重活性的DNA 糖基化酶，結(jié)合了DNA N-糖基化酶和AP裂解酶活性。它可識(shí)別并結(jié)合因紫外線照射形成的cis-syn型環(huán)丁烷嘧啶二聚體，在嘧啶二聚體的5’端切割糖苷鍵，從而釋放出二聚體并留下一個(gè)AP位點(diǎn)，隨后AP裂解酶活性通過 β 消除切割 AP 位點(diǎn)，與 3'-α、β-不飽和醛和5'-磷酸末端形成1個(gè)核苷酸DNA間隙（圖1）。

圖1. T4 Endonuclease V反應(yīng)原理示意圖[1]

T4 Endonuclease V可用于：

1、彗星實(shí)驗(yàn)（單細(xì)胞凝膠電泳）中增強(qiáng)對(duì)特定類型的DNA損傷，使損傷明顯檢測(cè)；

2、檢測(cè)和定量DNA損傷（比如RADAR-seq技術(shù) [2]，引入一段含有能被測(cè)序檢測(cè)的甲基化堿基序列作為標(biāo)記，以實(shí)現(xiàn)對(duì)損傷位點(diǎn)的檢測(cè)、定位和定量）；

3、FFPE樣本修復(fù)中識(shí)別并切割含有氧化損傷堿基的DNA鏈以啟動(dòng)DNA修復(fù)。

翌圣酶研發(fā)團(tuán)隊(duì)潛心研發(fā)，成功推出市售T4 Endonuclease V（Cat#14542ES）。翌圣T4 Endonuclease V來源于T4 噬菌體，蛋白純度≥95%（SDS-PAGE法），不含非特異性DNA酶殘留，大腸桿菌宿主gDNA殘留＜0.05 copies/1U。

20 μL反應(yīng)體系中，加入3個(gè)批次的3 U T4 Endonuclease V和 0.5 μg λDNA-HindⅢ digest，37℃孵育16 h，瓊脂糖凝膠電泳DNA譜帶不發(fā)生變化，表明翌圣Endonuclease IV不含非特異性DNase殘留。

圖2. 非特異性DNase殘留檢測(cè)

對(duì)3個(gè)批次的翌圣T4 Endonuclease V進(jìn)行宿主(E.coli)基因組DNA殘留檢測(cè)，結(jié)果顯示翌圣Endonuclease IV的宿主gDNA殘留＜0.05 copies/1 U。

圖3. 宿主gDNA殘留

參考文獻(xiàn)：

[1] Cafardi JA, Elmets CA. T4 endonuclease V: review and application to dermatology. Expert Opin Biol Ther. 2008 Jun;8(6):829-38. doi: 10.1517/14712598.8.6.829. PMID: 18476794.

[2] Selvam K, Sivapragasam S, Poon GMK, Wyrick JJ. Detecting recurrent passenger mutations in melanoma by targeted UV damage sequencing. Nat Commun. 2023 May 11;14(1):2702. doi: 10.1038/s41467-023-38265-3. PMID: 37169747; PMCID: PMC10175485.