CY-MSH270-I-RF-Q-單靶磁控濺射鍍膜儀
2025-08-11
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本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。鍍膜時(shí)，可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。還可根據(jù)客戶需要配置可旋轉(zhuǎn)樣品臺、加熱型樣品臺、多功能樣品臺，整機(jī)性價(jià)比高，是制作各種金屬（或非金屬）薄膜理想的鍍膜設(shè)備，可選配各種金屬靶材和真空系統(tǒng)。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：
項(xiàng)目 | 明細(xì) | |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH270-I-RF-Q | |
供電電壓 | AC220V，50Hz | |
整機(jī)功率 | 3KW | |
系統(tǒng)真空 | ≦5×10-4Pa | |
樣品臺 | 尺寸 | 150mm |
加熱溫度 | ≤500℃ | |
旋轉(zhuǎn)速度 | 1-20r/min | |
控溫精度 | ±1℃ | |
磁控濺射頭 | 數(shù)量 | 2英寸 x1 |
冷卻方式 | 水冷 | |
真空腔體 | 腔體尺寸 | φ270mm X 200mm |
觀察窗口 | 全向可視 | |
開啟方式 | 頂蓋拆卸式 | |
腔體材料 | 高純石英 | |
真空系統(tǒng) | 機(jī)械泵 | CY240 |
抽氣接口 | KF16 | |
抽氣速率 | 1.1L/s | |
分子泵 | CY600 | |
抽氣接口 | KF40 | |
抽氣速率 | 600L/s | |
排氣接口 | KF40 | |
真空測量 | 電阻規(guī)+電離規(guī) | |
供電電源 | AC;220V 50/60Hz | |
氣體控制 | 1路質(zhì)量流量計(jì)用于控制Ar流量，量程為:200SCCM | |
膜厚測量 | 可選配石英晶體膜厚儀，分辨率0.10 ? | |
控制系統(tǒng) | CYKY自研專業(yè)級控制系統(tǒng) | |
電源配置 | 直流電源數(shù)量 | 1臺 |
輸出功率 | ≤500W | |
輸出電壓 | ≤600V | |
響應(yīng)時(shí)間 | ＜5ms | |
射頻電源數(shù)量 | 1臺 | |
輸出功率 | ≤1000W | |
功率穩(wěn)定度 | ≤5W | |
測量精度 | ±0.5% | |
測量速度 | 100~1000ms | |
測量上限 | 50000 | |
1、有時(shí)為了達(dá)到理想的薄膜厚度，需要多次濺射鍍膜。在濺射鍍膜前，確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合，請?jiān)跒R射前用超聲波清洗基材表面。
2、基材清洗方式
（1）丙酮超聲清洗→異丙醇超聲清洗去除油脂→吹氮?dú)飧稍铩婵蘸嫦涑ニ?/span>
（2）等離子清洗：可表面粗糙化，可激活表面化學(xué)鍵，可祛除額外的污染物制造一個(gè)薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr，Ti，Mo，Ta，可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力此濺射鍍膜機(jī)可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射。
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