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北京瑞科中儀科技有限公司

簡介： 簡要描述：脈沖激光沉積樣品臺是一種物理氣相沉積技術，用于在襯底上生長高質(zhì)量的薄膜。脈沖激光沉積系統(tǒng)中的樣品臺是一個關鍵組件，用于支撐和加熱待沉積的樣品......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡介： 簡要描述：脈沖激光沉積靶臺的設計和應用對于脈沖激光沉積系統(tǒng)的性能和實驗結果具有重要影響。通過綜合考慮穩(wěn)定性、熱隔離、靈活性、靶材均勻性、冷卻機制以及靶......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡介： 簡要描述：脈沖激光沉積系統(tǒng)激光光路是一個高度復雜和精密的系統(tǒng)，需要各個部分的緊密配合和精確控制，才能制備出高質(zhì)量的薄膜。同時，隨著科技的發(fā)展，脈沖激光......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡介： 簡要描述：單腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)是一種的材料制備技術，它利用脈沖激光的高能量密度來蒸發(fā)和電離靶材上的物質(zhì)，并在基底上沉積形成各種物質(zhì)薄膜。這種系統(tǒng)通常......

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簡介： 簡要描述：雙腔體脈沖激光沉積系統(tǒng)（DualChamberPulsedLaserDepositionSystem）是一種的薄膜制備技術，它結合了脈沖激光沉積（PLD）技術和雙腔體設計的優(yōu)勢。這......

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簡介： 簡要描述：電漿原子層沉積設備是一種基于常規(guī)ALD的方法，其利用電漿作為裂化前驅(qū)物材料的條件，而不是僅依靠來自加熱基板的熱能。......

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簡介： 簡要描述：原子層沉積設備為一種氣相化學沉積技術。大多數(shù)的ALD反應，將使用兩種化學物質(zhì)稱為前驅(qū)物。這些前驅(qū)物以連續(xù)且自限的方式與材料表面進行反應。......

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北京瑞科中儀科技有限公司

簡介： 簡要描述：原子層沉積系統(tǒng)是基于順序使用氣相化學過程的最重要技術之一；它可以被視為一種特殊類型的化學氣相沉積（CVD）。多數(shù)ALD反應使用兩種或更多種化學物質(zhì)......