400毫米到2000毫米柔性基板在自由跨度方向和范圍廣泛的配置,適合高溫和腐蝕過程。

　　這個系列是一個Orion平臺模塊化沉積近乎無限范圍的配置。標(biāo)準(zhǔn)卷處理和驅(qū)動機制納入定制沉積區(qū)。野馬的開放室設(shè)計主體提供了源配置的靈活性,同時還能使快速的預(yù)防性維修周期,使Orion系列zui多的時間用于卷材的沉積。

　　溫度增加,冷卻和均勻性是關(guān)鍵的，驅(qū)動程序在柔性襯底上沉積大格式，提供了一個Orion平臺免費為范圍廣泛的加熱、冷卻和沉積源配置。

　　單或雙側(cè)碰的柔性基板提供了全面的網(wǎng)絡(luò)寬度以及可選的插頁提供襯底和薄膜層保護整個制造過程。

　　空氣和過渡室被獨立，在沉積面積允許快速輥變化沒有暴露大氣暴露到過程?！癘rion”系列達到的正常運行時間,實現(xiàn)完整的輥變化在不到3個小時。

　　幾個配置可供優(yōu)化過程基于溫度、沉積方法、源尺寸和取向。

　　精密溫度控制滾筒90英寸的直徑

　　●±1%或1℃溫度控制在滾筒表面

　　●-100℃到+ 300℃溫度配置

　　●網(wǎng)絡(luò)速度選項

　　0.1 - 5米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　1.0 - 15米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　10 - 50米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　注入沉積區(qū)域差異提供2來源/區(qū)

　　●X沉積區(qū)為正面涂層總計高達X源位置

　　●X沉積區(qū)為背面涂層總計高達X源位置

　　沉積選項

　　●可旋轉(zhuǎn)的或平面磁控管濺射陰極

　　●標(biāo)準(zhǔn)功率配置- RF、脈沖直流,直流、交流和HIPIMS

　　●每個沉積位置也可以配置為下面的沉積來源

　　●PECVD方法,離子源,XXXXX

　　設(shè)施需求

　　●近似系統(tǒng)尺寸,長度,寬度和間隙區(qū)域

　　●冷凍水系統(tǒng)

　　●電力需求依賴于源配置

　　●多個的地面接地連接\

　　●潔凈室的兼容性

　　●網(wǎng)絡(luò)連接或線路