400毫米到2000毫米柔性基片穿越多個(gè)沉積區(qū)呈現(xiàn)在一個(gè)精密溫度控制鼓。溫度均勻性在大面積柔性基板實(shí)現(xiàn)野馬專(zhuān)有鼓技術(shù)提供+ / 1度溫度控制。

　　單或雙側(cè)碰的柔性基板提供了全面的網(wǎng)絡(luò)寬度以及可選的插頁(yè)提供襯底和薄膜層保護(hù)整個(gè)制造過(guò)程。

　　風(fēng)和放松室被孤立在沉積面積允許快速輥?zhàn)兓瘺](méi)有暴露的過(guò)程域到大氣中?！矮C戶(hù)座”系列達(dá)到的正常運(yùn)行時(shí)間,實(shí)現(xiàn)完整的輥?zhàn)兓诓坏?個(gè)小時(shí)。

　　幾個(gè)配置可供優(yōu)化數(shù)量的沉積區(qū)和沉積源到一個(gè)特定的過(guò)程。

　　90英寸的精密溫度控制滾筒直徑

　　●+ / - 1%或1度溫度控制在滾筒表面面積

　　●-100攝氏度到+ 300攝氏度溫度配置

　　●網(wǎng)絡(luò)速度選項(xiàng)

　　1 - 5米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　1.0 - 15米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　10 - 50米/分鐘(+ / - X %的速度精度)

　　注入沉積區(qū)域差異提供2來(lái)源區(qū)每

　　●X沉積區(qū)為正面涂料總計(jì)高達(dá)X源位置

　　●X沉積區(qū)為背面涂層總計(jì)高達(dá)X源位置

　　沉積選項(xiàng)

　　●可旋轉(zhuǎn)的或平面磁控管濺射陰極

　　●標(biāo)準(zhǔn)功率配置- RF、脈沖直流,直流、交流和HIPIMS

　　●每個(gè)沉積位置也可以配置為下面的沉積來(lái)源

　　●PECVD方法,離子源,XXXXX

　　設(shè)施需求

　　●近似系統(tǒng)尺寸,長(zhǎng)度,寬度和間隙區(qū)域

　　●冷凍水系統(tǒng)

　　●電力需求依賴(lài)于源配置

　　●多個(gè)的地面接地連接

　　●潔凈室的兼容性

　　●網(wǎng)絡(luò)連接或線(xiàn)路

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