硅片厚度TTV測試儀
具體成交價以合同協(xié)議為準
- 公司名稱 九域半導體科技（蘇州）有限公司
- 品牌 其他品牌
- 型號
- 產(chǎn)地
- 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
- 更新時間 2025/6/26 11:28:38
- 訪問次數(shù) 305
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| 價格區(qū)間 | 面議 | 應用領域 | 電子/電池,航空航天,電氣,綜合 |
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硅片厚度測試的方法主要包括非接觸式光學測量技術，如反射率法、干涉法和激光掃描共聚焦顯微鏡等??1。其中，反射率法是通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度，而干涉法則是利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度，這種方法可以測量到非常薄的硅片?1。
測試原理
?反射率法?：通過測量不同角度下光線的反射率變化來計算硅片厚度。
?干涉法?：利用光的干涉現(xiàn)象來測量厚度，適用于非常薄的硅片。
?激光掃描共聚焦顯微鏡?：利用激光掃描和共聚焦技術進行高精度的三維成像和測量。
測試標準
硅片厚度的測量通常參考國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SEMI）頒布的相關標準，如SEMIM1、SEMIM59等?1。
測試設備
硅片厚度測量儀是一種用于測量硅片厚度的設備，操作步驟包括將待測硅片放置在測量儀上，開啟儀器并調(diào)整參數(shù)進行測量并記錄數(shù)據(jù)。維護注意事項包括定期清潔測量儀、避免碰撞或摔落，并按照說明書進行日常維護?
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