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在線詢價(jià)
EVG6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)光刻系統(tǒng)PX 7217
KWD臺(tái)式勻膠機(jī)PX 2330
KW-4B新型臺(tái)式勻膠機(jī) 甩膠機(jī)PX 2330
SC200-SE高精密勻膠機(jī)PX 2330
SC100-PE型勻膠機(jī)PX 2330
SC100-SR分體式勻膠機(jī)PX 2330
SC100-SE高精密勻膠機(jī)PX 2330
EZ8高精密型勻膠機(jī)PX 2330
EZ4小型勻膠機(jī)EZ4PX 2330
KW-4L加熱旋涂機(jī) 勻膠機(jī)PX 2330
KW-4B臺(tái)式勻膠機(jī) 旋涂機(jī) 甩膠機(jī)PX 2330
TJ800數(shù)字勻膠機(jī)TJ800PX 2330
TJ1200數(shù)字勻膠機(jī)TJ1200PX 2330
CKF-411凈化型勻膠機(jī)PX 2330
AC200-SE勻膠機(jī) AC200-SEPX 2330
KW-4BC智能程控勻膠機(jī)KW-4BCPX 2330
德國(guó)SUSS 旋轉(zhuǎn)勻膠機(jī) Dateblat LabSpin 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:勻膠機(jī)suss;旋轉(zhuǎn)勻膠機(jī);SUSS勻膠機(jī);suss勻膠機(jī);Suss勻膠機(jī);德國(guó)公司suss;德國(guó)勻膠機(jī)PX 2870
德國(guó)進(jìn)口PVA TePla IoN Wave 10E等離子去膠機(jī) 售后齊全PX 2870
L20001英國(guó)Ossila-Spin CoaterPX 3618
L2001英國(guó)Ossila Spin ProcessorPX 3618
SC1CIF-Spin ProcessorPX 3618
SPN150i德國(guó)SPS-EUROPE 勻膠機(jī)PX 3618
L2005Ossila狹縫擠出式旋涂機(jī)PX 3618
Ossila非真空勻膠旋涂?jī)xPX 3618
SPN150i德國(guó)SPS-EUROPE勻膠機(jī)PX 3618
L2005英國(guó)Ossila勻膠機(jī)PX 3618
L20005Ossila勻膠旋涂?jī)xPX 3618
無(wú)掩膜/激光直寫(xiě)光刻機(jī)PX 0
勻膠機(jī)PX 0
實(shí)驗(yàn)型勻膠機(jī)PX 0
等離子去膠機(jī)PX 0
等離子清洗&去膠機(jī)PX 0
MHY-29071自動(dòng)滴膠勻膠機(jī)PX 2802
EVG610紫外納米壓印機(jī)PX 2490
RAITH- EBPG5200高性能電子束曝光機(jī)PX 2490
520HE 納米壓印EVG 520HE 熱壓印系統(tǒng)PX 2490
EVG 7200LA納米壓印EVG®510HE 熱壓印系統(tǒng)PX 2490
EVG 7200LA納米壓印EVG 7200LA 大面積SmartNIL UV納米壓印PX 2490
EVG 7200 納米壓印EVG7200 自動(dòng)化SmartNIL UV納米壓印光刻PX 2490
薄膜生長(zhǎng)設(shè)備
工藝測(cè)量和檢測(cè)設(shè)備
集成電路測(cè)試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長(zhǎng)設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
勻膠機(jī)
有掩膜光刻機(jī)
透明亞克力腔體勻膠機(jī)
PP腔體勻膠機(jī)
鋁合金陽(yáng)極氧化處理腔體勻膠機(jī)
防腐型聚四氟腔體勻膠機(jī)
凈化型勻膠機(jī)
全自動(dòng)超聲波氣氛加熱勻膠機(jī)
微波等離子去膠機(jī)
自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
日本無(wú)掩膜光刻機(jī) 研發(fā)及小批量訂單利器
8寸程控觸屏臺(tái)式勻膠機(jī)旋涂?jī)x
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
廣播電視節(jié)目經(jīng)營(yíng)許可證
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