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深硅刻蝕機
深硅刻蝕機PSE V300主要用于12英寸深硅刻蝕，同時兼具Bosch/Non-Bosch工藝，實現(xiàn)多工藝領(lǐng)域覆蓋。該機臺針對Bosch循環(huán)工藝方式采用專業(yè)先進(jìn)...
型號： PSE V300 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:59:45 對比

深硅刻蝕機 PSE V300
深硅刻蝕機
深硅刻蝕機HSE P300主要用于12英寸硅刻蝕。采用Cluster結(jié)構(gòu)布局，能夠減小占地，提升產(chǎn)能。系統(tǒng)主要由傳輸模塊、工藝模塊、灰區(qū)部件、電源柜等組成?？蓪?..
型號： HSE系列所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:57:46 對比

HSE 深硅刻蝕機北方華創(chuàng)
6/8英寸全自動槽式清洗機
GAMA系列6/8英寸全自動槽式清洗機滿足全部濕法工藝需求，覆蓋RCA、PR Strip、Solvent、Wet Etch等應(yīng)用，可用于典型0.35um、0.1...
型號： GAMA Seri... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:55:40 對比

GAMA Series 6/8英寸全自動槽式清洗機北方華創(chuàng)
12英寸立式中高溫氧化爐
12英寸立式中高溫氧化爐THEORIS X302H主要用于12英寸1000℃-1200℃高溫和超高溫氧化和退火工藝。該機臺為立式單腔爐管系統(tǒng)，工藝處理過程實現(xiàn)了...
型號： THEORIS X... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:53:28 對比

THEORIS X302H/P 12英寸立式中高溫氧化爐北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設(shè)備
12英寸槽式清洗設(shè)備Pinnacle300平臺適用于集成電路、功率半導(dǎo)體、襯底材料、硅基微顯示領(lǐng)域的清洗工藝。該機臺主要由傳輸模塊、工藝模塊、藥液供給系統(tǒng)、電源...
型號： Pinnacle3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/6 14:51:45 對比

Pinnacle300 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
倒片機
WS-PE100/150 倒片機，晶圓全自動取放，人工替代，良好控制顆。
型號： WS-PE100/... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:18:01 對比

WS-PE100/150 倒片機北方華創(chuàng)
倒片機
WS-ALN100/150 倒片機，晶圓全自動取放，人工替代，良好控制顆粒。
型號： WS-ALN100... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:16:01 對比

WS-ALN100/150 倒片機北方華創(chuàng)
濺射系統(tǒng)
iTops PVD ITO 濺射系統(tǒng)，加熱能力、精確的溫度控制、優(yōu)異的真空能力.高晶體質(zhì)量的氮化鋁薄膜及優(yōu)異的薄膜厚度均勻性。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:14:29 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD ITO 北方華創(chuàng)
濺射系統(tǒng)
iTops PVD AlN 濺射系統(tǒng)，采用托盤形式，可兼容 2/4/6 英寸,工藝溫度在 0~700℃之間。
型號： iTops PVD... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:12:03 對比

濺射系統(tǒng)iTops PVD AlN 北方華創(chuàng)
芯片刻蝕機
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機，優(yōu)良的等離子體發(fā)生裝置，適用多種材料刻蝕，工藝窗口寬。
型號： ELEDE... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:09:50 對比

芯片刻蝕機 ELEDE® 380系列北方華創(chuàng)
8英寸槽式清洗設(shè)備
WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備，該平臺工藝區(qū)為 12 吋優(yōu)良槽式清洗設(shè)備的拓展，具備優(yōu)異的工藝效果。
型號： WE2102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:07:39 對比

WE2102系列 8英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
12英寸槽式清洗設(shè)備
WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備，可配備 i-Clean 多藥液工藝槽，支持 DN unit, DIO3 等附屬功能。
型號： WE3102系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:05:25 對比

WE3102系列 12英寸槽式清洗設(shè)備北方華創(chuàng)
12英寸單片清洗設(shè)備
Saqua SC3080A系列 12英寸單片清洗設(shè)備。
型號： Saqua SC3... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:03:49 對比

12英寸單片清洗設(shè)備 Saqua SC3080A系列北方華創(chuàng)
12英寸立式低溫退火爐
THEORIS A302L 12英寸立式低溫退火爐，優(yōu)良的壓力控制系統(tǒng),高精度溫度場控制技術(shù)。
型號： THEORIS A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:02:10 對比

12英寸立式低溫退火爐 THEORIS A302L 北方華創(chuàng)
高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)。
型號： Orion Pro... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:00:36 對比

Orion Proxima 高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，磁控濺射源和腔室結(jié)構(gòu)的設(shè)計有效提高靶材利用率。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 12:58:26 對比

Polaris系列 12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)
Polaris系列8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，多種材料膜層工藝能力，低損傷，高深寬比填充能力。
型號： Polaris系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 12:56:12 對比

Polaris系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)北方華創(chuàng)
鋁物理氣相沉積系統(tǒng)
eVictor Al PVD 鋁物理氣相沉積系統(tǒng)，優(yōu)良的磁控濺射系統(tǒng)，有效提高薄膜均勻性及靶材利用率。
型號： eVictor A... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 12:54:10 對比

鋁物理氣相沉積系統(tǒng)eVictor Al PVD 北方華創(chuàng)
高密度刻蝕機
GDE C200系列高密度刻蝕機，等離子體源和頻率設(shè)計，等離子體密度高，適用于強鍵合材料刻蝕。
型號： GDE C200系... 所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 12:51:45 對比

GDE C200系列高密度刻蝕機北方華創(chuàng)
ICP 刻蝕機
NMC 508系列 ICP刻蝕機是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機，具有高精度、高選擇性和高效...
型號： NMC 508系列所在地：北京市參考價：面議更新時間：2025/6/5 12:50:11 對比

ICP刻蝕機 NMC 508系列北方華創(chuàng)

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