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等離子體沉積ALD
等離子體沉積ALD AD-230LP是一種原子層沉積（ALD）系統(tǒng)，能夠在原子水平上控制薄膜厚度。有機金屬原料和氧化劑交替供給反應(yīng)室，僅通過表面反應(yīng)進行薄膜沉積...
型號： AD-230LP 所在地：日本參考價：面議更新時間：2025/6/6 9:38:34 對比

SAMCO 等離子體沉積等離子體沉積ALD AD-230LP
紫外線臭氧清洗設(shè)備
UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達到200-300nm/min的高灰化率。該...
型號： UV-300HC 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:15:58 對比

紫外線臭氧清洗設(shè)備 UV-300HC SAMCO
紫外線臭氧清洗機
UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
型號： UV-300H 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:14:22 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-300H SAMCO
紫外線臭氧清洗機
UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC...
型號： UV-1 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:11:53 對比

紫外線臭氧清洗機 UV-1 SAMCO
等離子清洗設(shè)備
PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
型號： PC-300 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:09:49 對比

等離子清洗設(shè)備 PC-300 SAMCO
等離子清洗設(shè)備
PC-1100是一種平行板式等離子清洗機，用于清洗樣品表面的有機和無機污染。該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產(chǎn)...
型號： PC-1100 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:07:36 對比

PC-1100 等離子清洗設(shè)備 SAMCO
緊湊型刻蝕設(shè)備
RIE-1C是用于半導(dǎo)體芯片故障分析的緊湊型刻蝕設(shè)備。可以高效、低損傷地去除鈍化膜。它操作簡單，樣品放置后只需按一下按鈕就可以完成整個過程?？梢苑旁谧烂嫔希部?..
型號： RIE-1C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:05:08 對比

緊湊型刻蝕機 RIE-1C SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-300NR是一種理想的RIE等離子刻蝕設(shè)備，適用于加工ø300mm晶圓和多晶圓（ø3“×12，ø4“×...
型號： RIE-300NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:02:54 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-300NR SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-200C RIE等離子刻蝕設(shè)備是在擁有豐富交貨業(yè)績的CCP RIE系統(tǒng) “RIE-10NR “的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對Si、Poly...
型號： RIE-200C 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 14:00:57 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-200C SAMCO
RIE等離子刻蝕系統(tǒng)
RIE-200NL是一種負載鎖定型的反應(yīng)離子蝕刻系統(tǒng)，它提高了工藝的可重復(fù)性，并允許腐蝕性氣體化學(xué)。優(yōu)化的工藝室設(shè)計可在ø8 “晶圓或ø22...
型號： RIE-200NL 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:58:44 對比

RIE等離子刻蝕系統(tǒng)RIE-200NL SAMCO
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:56:54 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-800iP SAMCO
RIE等離子刻蝕設(shè)備
RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能的全自動RIE等離子刻蝕設(shè)備，它能滿足非腐蝕性氣體化學(xué)苛刻的工藝要求。計算機化的觸摸屏為參數(shù)控制和存儲提供了一個用戶友...
型號： RIE-10NR 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:55:13 對比

RIE等離子刻蝕設(shè)備 RIE-10NR SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iP是以電感耦合等離子體為放電方式，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備高速進行各種材料的超精細加工的負載鎖定型ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電...
型號： RIE-230iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:53:29 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-230iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-230iPC是以電感耦合等離子體為放電方式，高速進行各種材料的超精細加工的盒式ICP蝕刻系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過采用龍卷風(fēng)式線圈電，高效地產(chǎn)生穩(wěn)定的高密度等離子...
型號： RIE-230iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:51:07 對比

RIE-230iPC 等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-400iP是用于ø4 “晶圓的負載鎖定型蝕刻系統(tǒng)，等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備可對各種半導(dǎo)體和絕緣膜進行高精度、高均勻性加工。采用龍卷風(fēng)線圈的電...
型號： RIE-400iP 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:48:38 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-400iP SAMCO
等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備
RIE-350iPC是一種盒式裝載電感耦合等離子體(ICP)蝕刻設(shè)備，可處理多達ø350毫米的載盤，用于多晶圓批量處理。該系統(tǒng)為各種蝕刻應(yīng)用提供了堅固...
型號： RIE-350iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:46:44 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 RIE-350iPC SAMCO
等離子體刻蝕設(shè)備
高密度等離子體刻蝕設(shè)備系統(tǒng)采用電感耦合等離子體作為放電形式。該系統(tǒng)配備了真空盒室，是一套完整的生產(chǎn)系統(tǒng)，具有優(yōu)良的工藝重復(fù)性和穩(wěn)定性。
型號： RIE-800iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:44:47 對比

等離子體（ICP）刻蝕設(shè)備 SAMCO RIE-800iPC
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-400iPB是一款電感耦合等離子體放電設(shè)備，用于博世MEMS和電子元件工藝中的高速硅深孔加工。RIE-800iPB是為研究和開發(fā)目的而改裝的。該系統(tǒng)由R...
型號： RIE-400iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:42:34 對比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-400iPB SAMCO
電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備
Samco 的 RIE-800iPB 是一種電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備，使用高密度等離子體進行 MEMS 和 TSV 應(yīng)用所需的深度硅蝕刻。RIE-800iPB是...
型號： RIE-800iP... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:40:51 對比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800iPB SAMCO
深硅刻蝕設(shè)備
RIE-800BCT是使用電感耦合等離子體作為放電形式的生產(chǎn)型硅DRIE系統(tǒng)。這種高性能系統(tǒng)能夠進行高縱橫比處理（超過100）和低扇形處理，同時保持高蝕刻率和選...
型號： RIE-800BC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/5 13:39:08 對比

深硅刻蝕設(shè)備 RIE-800BCT SAMCO

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