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光譜橢偏儀
UNECS系列是可以高速、高精度測(cè)量薄膜膜厚和折射率的分光橢偏儀。采用的測(cè)量方式，實(shí)現(xiàn)了高速測(cè)量和機(jī)體的小型化。我們的產(chǎn)品陣容包括便攜式，自動(dòng)式和對(duì)應(yīng)真空環(huán)境的...
型號(hào)： UNECS系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:16:26 對(duì)比

橢偏儀手動(dòng)型
真空計(jì)
皮拉尼真空計(jì)，可以測(cè)量從大氣壓到5×10-2Pa的廣泛的壓力范圍該真空計(jì)從傳統(tǒng)的控制器（傳感器單元）中除去操作·顯示部，最大限度凝縮精簡功能...
型號(hào)： SW系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:14:39 對(duì)比

真空計(jì)
真空泵
VS系列是旋片式（單級(jí)）的油旋轉(zhuǎn)真空泵?？纱钆淞_茨泵獲得更大的排氣量。內(nèi)置油霧過濾器和回油裝置，排氣性能長期穩(wěn)定。此外，設(shè)計(jì)上還考慮到了油和濾芯更換等維保的便宜...
型號(hào)： VS系列所在地：日本參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/6 11:11:17 對(duì)比

真空泵
TCO激光劃線設(shè)備
TCO激光劃線設(shè)備ULT-1400本設(shè)備通過近紅外脈沖激光燒蝕法除去玻璃基板上成膜的透明電（TCO）膜，是一種枚用式激光劃線設(shè)備。本設(shè)備由6個(gè)IR激光法陣器和光...
型號(hào)： ULT-1400 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:14:21 對(duì)比

TCO激光劃線設(shè)備 ULT-1400 去膠設(shè)備
自然氧化膜去除設(shè)備
自然氧化膜去除設(shè)備去除設(shè)備RISE-300批處理式自然氧化膜去除設(shè)備RISETM-300是用于去除位于LSI的Deep-Contact底部等難以去除的自然氧化膜...
型號(hào)： RISE-300 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:11:58 對(duì)比

自然氧化膜去除設(shè)備 RISE-300 去膠設(shè)備
干法刻蝕裝置
對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700對(duì)應(yīng)光學(xué)器件、MEMS制造的干法刻蝕裝置NLD-5700是搭載了磁性中性線（NLD- neutral l...
型號(hào)： NLD-5700 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:10:19 對(duì)比

干法刻蝕裝置 NLD-5700
干法刻蝕設(shè)備
干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX對(duì)應(yīng)LED量產(chǎn)用的干法刻蝕設(shè)備?NE-950EX?相對(duì)我司以往設(shè)備實(shí)現(xiàn)了140%的生產(chǎn)力。是搭載了ICP高密度等離子源...
型號(hào)： APIOS NE-... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:08:22 對(duì)比

干法刻蝕設(shè)備 APIOS NE-950EX
NLD干法刻蝕設(shè)備
研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570研究開發(fā)向NLD干法刻蝕設(shè)備NLD-570，是搭載了愛發(fā)科磁性中性線（NLD- neutral loop discha...
型號(hào)： NLD-570 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:06:19 對(duì)比

NLD干法刻蝕設(shè)備 NLD-570
高密度等離子刻蝕裝置
高密度等離子刻蝕裝置ULHITETM NE-7800H高密度等離子客戶裝置ULHITE NE-7800H是對(duì)應(yīng)刻蝕FeRAM、MRAM、ReRAM、PCRAM等...
型號(hào)： ULHITETM ... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:03:51 對(duì)比

ULHITETM NE-7800H 高密度等離子刻蝕裝置
刻蝕設(shè)備
量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800量產(chǎn)用刻蝕設(shè)備NE-5700/NE-7800是可以對(duì)應(yīng)單腔及多腔、重視性價(jià)比擁有擴(kuò)展性的刻蝕設(shè)備。
型號(hào)： NE-5700/N... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 15:01:45 對(duì)比

NE-5700/NE-7800 刻蝕設(shè)備
濺射鍍膜設(shè)備（立式）
濺射鍍膜設(shè)備SMD系列（立式）SMD 系列是鍍金屬膜、ITO、IGZO、誘電體膜等的枚葉式濺射鍍膜設(shè)備。僅SMD系列就有超過1000臺(tái)的豐富的采用實(shí)績，在各種各...
型號(hào)： SMD系列所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:59:51 對(duì)比

濺射鍍膜設(shè)備（立式）SMD系列
Load-lock式濺射設(shè)備
Load-lock式濺射設(shè)備是可對(duì)應(yīng)從研究開發(fā)到小規(guī)模量產(chǎn)的濺射設(shè)備。這種設(shè)備通過在真空濺射室之前增加一個(gè)預(yù)真空鎖室（Load-lock chamber），實(shí)現(xiàn)...
型號(hào)： CS-200 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:58:03 對(duì)比

Load-lock式濺射設(shè)備 CS-200
批次式濺射設(shè)備
批次式濺射設(shè)備SV系列SV系列為縱型batch式濺射設(shè)備。為可以處理大量基板的回轉(zhuǎn)型設(shè)備。
型號(hào)： SV系列所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:55:41 對(duì)比

批次式濺射設(shè)備
去膠設(shè)備
去膠設(shè)備NA-1300系列從關(guān)鍵的新世代晶圓制程到晶圓封裝，Luminous NA系列可對(duì)應(yīng)廣范圍的各類晶圓尺寸的各類工藝需求。
型號(hào)： NA-1300系列所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:53:49 對(duì)比

去膠設(shè)備 NA-1300系列
SiC用高溫離子注入設(shè)備
SiC用高溫離子注入設(shè)備 IH-860DSIC搭載了高溫ESC（靜電吸附卡盤）的面向SiC量產(chǎn)用的高能粒子注入裝置。
型號(hào)： IH-860DSI... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:51:37 對(duì)比

IH-860DSIC SiC用高溫離子注入設(shè)備
離子注入設(shè)備
研究開發(fā)用中電流離子注入設(shè)備IMX-3500中電流離子注入裝置IMX-3500為大能量200keV、對(duì)應(yīng)大晶圓尺寸8inch的離子注入裝置，適用于大學(xué)等機(jī)構(gòu)的研...
型號(hào)： IMX-3500 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:49:39 對(duì)比

IMX-3500 離子注入設(shè)備
離子注入設(shè)備
高能對(duì)應(yīng)離子注入設(shè)備SOPHI-400可達(dá)2400KeV的高能離子注入設(shè)備。
型號(hào)： SOPHI-400 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:47:50 對(duì)比

離子注入設(shè)備 SOPHI-400
離子注入設(shè)備
可對(duì)應(yīng)低速高濃度的離子注入設(shè)備SOPHI-30低加速、高濃度對(duì)應(yīng)的離子注入設(shè)備。
型號(hào)： SOPHI-30 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:45:48 對(duì)比

離子注入設(shè)備 SOPHI-30
枚葉式等離子CVD設(shè)備
枚葉式等離子CVD設(shè)備CMD系列CMD系列是用SiH4和TEOS成膜的a-Si膜、氧化硅膜、氮化膜成膜用的枚葉式CVD設(shè)備。
型號(hào)： CMD系列所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:43:22 對(duì)比

枚葉式等離子CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備 CMD系列
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備
Load-lock式Plasma CVD設(shè)備 CC-200/400Load-lock式Plasma CVD設(shè)備CC-200/400是小型的使用便利的可對(duì)應(yīng)從研究...
型號(hào)： CC-200/40... 所在地：國外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2025/6/5 14:41:21 對(duì)比

CC-200/400 Load-lock式Plasma CVD設(shè)備鍍膜設(shè)備

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