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2025
03-04

高精度主動減振臺的原理探秘
在眾多對振動控制要求較高的領(lǐng)域，如精密儀器制造、光學(xué)實驗、航空航天等，高精度主動減振臺發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。那么，它是基于怎樣的原理來實現(xiàn)高效減振的呢？高精度主動減振臺的核心原理是實時監(jiān)測和主動控制。它主要由傳感器、控制器、作動器和支撐結(jié)構(gòu)等關(guān)鍵部件組成。1.傳感器是主動減振臺的“感知器官”。它能夠敏銳地感知臺面上被支撐物體所受到的振動信息，包括振動的幅度、頻率、方向等參數(shù)。常見的傳感器有加速度傳感器等，它們可以將振動信號轉(zhuǎn)換為電信號，并將這些信號準(zhǔn)確地傳遞給控制器。2.控制器則是整個系統(tǒng)的“大
2025
02-25

解析折射率測量儀：光學(xué)物性檢測的關(guān)鍵設(shè)備
在現(xiàn)代科學(xué)和工業(yè)領(lǐng)域，對物質(zhì)光學(xué)性質(zhì)的精準(zhǔn)檢測至關(guān)重要。而折射率測量儀，作為一種非常重要的光學(xué)物性檢測設(shè)備，發(fā)揮著不可替代的作用。折射率測量儀的核心原理基于光的折射現(xiàn)象。當(dāng)光線從一種介質(zhì)進(jìn)入另一種介質(zhì)時，其傳播方向會發(fā)生改變，折射率就是描述這種變化程度的物理量。該儀器通過精確測量光在不同介質(zhì)中的折射角度或折射光的光強(qiáng)分布等信息，進(jìn)而計算出物質(zhì)的折射率。在科學(xué)研究方面，折射率測量儀有著廣泛的應(yīng)用。例如在材料科學(xué)中，它可以幫助研究人員探究各種新型材料的光學(xué)特性。不同材料的折射率差異反映了其內(nèi)部原子排
2025
02-24

光學(xué)膜厚測量儀的工作原理與優(yōu)勢
光學(xué)膜厚測量儀的工作原理與優(yōu)勢分析如下：工作原理光學(xué)膜厚測量儀的工作原理主要基于光的干涉和反射原理。當(dāng)光源發(fā)出的光波照射到被測膜層時，一部分光波會在膜層表面反射，另一部分光波會穿透膜層并在膜層與基底的界面上反射回來。這兩部分反射光波會在探測器位置發(fā)生干涉，形成干涉圖樣。通過測量干涉圖樣的變化，可以計算出光波的相位差，進(jìn)而推算出膜層的厚度。具體來說，相位差與膜厚度之間存在一定的數(shù)學(xué)關(guān)系，通過這一關(guān)系可以精確地求出膜層的厚度。優(yōu)勢高精度：光學(xué)膜厚測量儀采用非接觸式測量方法，避免了機(jī)械接觸對膜層的損傷
2025
02-20

紅外激光測厚儀使用指南：精準(zhǔn)測量，輕松掌握
紅外激光測厚儀作為一種非接觸式測量儀器，以其高精度、高效率的特點，廣泛應(yīng)用于薄膜、涂層、金屬板材等材料的厚度測量。為了幫助您更好地使用紅外激光測厚儀，本文將詳細(xì)介紹其使用方法，助您輕松掌握測量技巧。一、使用前的準(zhǔn)備工作1.儀器校準(zhǔn)：使用前，務(wù)必使用標(biāo)準(zhǔn)厚度片對儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，確保測量精度。按照說明書操作，選擇合適的標(biāo)準(zhǔn)片，并進(jìn)行多點校準(zhǔn)，以減小誤差。2.環(huán)境選擇：選擇溫度適宜、濕度適中、無強(qiáng)光直射和強(qiáng)電磁干擾的環(huán)境進(jìn)行測量，避免環(huán)境因素影響測量結(jié)果。3.樣品準(zhǔn)備：清潔被測樣品表面，去除油污、灰塵等
2025
01-17

膜厚測量儀的操作規(guī)范與安全注意事項
膜厚測量儀是科研、工業(yè)生產(chǎn)及質(zhì)量控制等領(lǐng)域中用于精確測量薄膜、涂層或其他薄層材料厚度的關(guān)鍵工具。為確保測量結(jié)果的準(zhǔn)確性和操作人員的安全，使用儀器時必須嚴(yán)格遵守操作規(guī)范和安全注意事項。在操作規(guī)范方面，首先需根據(jù)被測材料的類型和應(yīng)用場景選擇合適的膜厚測量儀。例如，磁性的適用于測量鋼鐵等磁性金屬基底上的非磁性涂層，而渦流的則適用于非磁性金屬上的涂層測量。在使用前，必須對儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，確保測量數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。校準(zhǔn)時應(yīng)使用已知厚度的標(biāo)準(zhǔn)樣品，按照儀器說明書進(jìn)行操作。在實際測量過程中，需確保被測表面清潔無污染
2025
01-16

晶圓水平儀技術(shù)解析：從原理到應(yīng)用的全面探討
晶圓水平儀是半導(dǎo)體制造中的高精度測量工具。其工作原理基于精密的傳感器和算法，能夠?qū)崟r測量晶圓表面的微小起伏，確保晶圓在加工過程中的水平狀態(tài)。晶圓水平儀的核心在于其高精度的傳感器。這些傳感器能夠捕捉到晶圓表面微小的傾斜或不平整，通過算法處理后將結(jié)果反饋給制造設(shè)備。制造設(shè)備再根據(jù)這些反饋信息對晶圓進(jìn)行微調(diào)，確保其在整個加工過程中始終保持水平。在實際應(yīng)用中，晶圓水平儀的作用至關(guān)重要。在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓的表面平整度對芯片的制造工藝有著嚴(yán)格的要求。任何微小的瑕疵都可能導(dǎo)致芯片制造的失敗，進(jìn)而影響整個
2025
01-09

膜厚測量儀：精確測量薄層材料厚度的關(guān)鍵工具
膜厚測量儀是一種廣泛應(yīng)用于科研、工業(yè)生產(chǎn)和質(zhì)量控制領(lǐng)域的精密儀器，其主要功能在于準(zhǔn)確測量薄膜、涂層或其他薄層材料的厚度。這種儀器在多個行業(yè)中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，為產(chǎn)品的性能評估和質(zhì)量控制提供了有力支持。膜厚測量儀的工作原理基于多種物理現(xiàn)象，包括光學(xué)干涉、電磁感應(yīng)、渦流效應(yīng)等。光學(xué)干涉法通過測量光波在薄膜表面和底部之間反射和透射的相位差來計算厚度；電磁感應(yīng)法則利用測頭經(jīng)過非鐵磁覆層時流入鐵磁基體的磁通大小來測定覆層厚度；渦流法則通過測量高頻交流信號在測頭線圈中產(chǎn)生的電磁場變化來推算薄膜厚度。這些
2024
12-27

電鏡防振臺一款消除低頻共振干擾的儀器
在科研和工業(yè)檢測領(lǐng)域，電子顯微鏡作為探索微觀世界的得力工具，其性能的穩(wěn)定性和精確度至關(guān)重要。然而，在實際應(yīng)用中，電子顯微鏡往往會受到各種振動干擾，尤其是低頻共振頻率的干擾，這會嚴(yán)重影響其成像質(zhì)量和測量精度。為了有效應(yīng)對這一問題，電鏡防振臺應(yīng)運而生，成為消除低頻共振干擾的利器。電鏡防振臺的設(shè)計原理主要基于振動控制和穩(wěn)定技術(shù)，它結(jié)合了主動隔振和被動隔振兩種技術(shù)，以最大限度地減少外界振動對電子顯微鏡的影響。主動隔振技術(shù)通過內(nèi)置的傳感器實時監(jiān)測外部振動情況，一旦探測到異常的震動，就會立即將這些信息轉(zhuǎn)化為
2024
12-23

晶圓水平儀在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用
晶圓水平儀在半導(dǎo)體制造中扮演著至關(guān)重要的角色。作為一種精密的測量工具，晶圓水平儀主要用于測量和調(diào)整晶圓表面的平整度，確保半導(dǎo)體制造過程中的精確度和穩(wěn)定性。在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓是制造半導(dǎo)體集成電路的基礎(chǔ)材料。晶圓的表面平整度對芯片的制造工藝有著嚴(yán)格的要求，任何微小的瑕疵都可能導(dǎo)致芯片制造的失敗。因此，晶圓水平儀的使用成為確保晶圓質(zhì)量的關(guān)鍵步驟。晶圓水平儀通過高精度的傳感器和算法，能夠?qū)崟r測量晶圓表面的微小起伏，并將測量結(jié)果反饋給制造設(shè)備。制造設(shè)備根據(jù)反饋信息進(jìn)行微調(diào)，確保晶圓在加工過程中始終保
2024
11-26

晶圓鍵合技術(shù)的新趨勢
1.概述由于光刻的延遲和功率限制的綜合影響，制造商無法水平縮放，因此制造商正在垂直堆疊芯片設(shè)備，含三維集成技術(shù)。由于移動設(shè)備的激增推動了對更小電路尺寸的需求，這已變得至關(guān)重要，但這種轉(zhuǎn)變并不總是那么簡單。三維集成方案可以采用多種形式，具體取決于所需的互連密度。圖像傳感器和高密度存儲器可能需要將一個芯片直接堆疊在另一個芯片上，并通過硅通孔連接，而系統(tǒng)級封裝設(shè)計可能會將多個傳感器及其控制邏輯放在一個重新分配層上。2.業(yè)內(nèi)行情EVGroup業(yè)務(wù)發(fā)展總監(jiān)ThomasUhrmann認(rèn)為，對于設(shè)計師來說，關(guān)
2024
11-26

單頻和雙頻激光干涉儀分別是如何測量的？
激光干涉儀是利用激光作為長度基準(zhǔn)，對數(shù)控設(shè)備（加工中心、三座標(biāo)測量機(jī)等）的位置精度（定位精度、重復(fù)定位精度等）、幾何精度（俯仰扭擺角度、直線度、垂直度等）進(jìn)行精密測量的精密測量儀器。激光干涉儀有單頻的和雙頻的兩種。單頻激光干涉儀從激光器發(fā)出的光束，經(jīng)擴(kuò)束準(zhǔn)直后由分光鏡分為兩路，并分別從固定反射鏡和可動反射鏡反射回來會合在分光鏡上而產(chǎn)生干涉條紋。當(dāng)可動反射鏡移動時，干涉條紋的光強(qiáng)變化由接受器中的光電轉(zhuǎn)換元件和電子線路等轉(zhuǎn)換為電脈沖信號，經(jīng)整形、放大后輸入可逆計數(shù)器計算出總脈沖數(shù)，再由電子計算機(jī)按計
2024
11-26

光學(xué)光刻技術(shù)（Optical lithography）
1.簡介光學(xué)光刻（Opticallithography），也稱為光學(xué)平版印刷術(shù)或紫外光刻，是在其他處理步驟（例如沉積，蝕刻，摻雜）之前用光刻膠對掩模和樣品進(jìn)行構(gòu)圖的方法。2.設(shè)備（接近式光刻機(jī)）2.1HMDS及涂膠1)標(biāo)準(zhǔn)旋轉(zhuǎn)工藝中包括HMDS蒸汽預(yù)處理2)烤箱-批量處理多個晶圓3)HMDS也可以在手動旋轉(zhuǎn)器上旋轉(zhuǎn)涂布4）涂膠機(jī)上進(jìn)行光刻膠的涂布2.2對準(zhǔn)接觸光刻1)光刻前的對準(zhǔn)2)對準(zhǔn)器——處理具有對準(zhǔn)圖形的晶圓3)EVG610等掩模對準(zhǔn)機(jī)——尺寸從碎片到12”晶圓4)曝光機(jī)——光刻膠曝光2.
2024
11-13

防震臺VC微振等級判定及其重要性
防震臺作為科研實驗和精密設(shè)備中至關(guān)重要的重要設(shè)施，廣泛應(yīng)用于各種高精度測試與實驗中。為了確保測試結(jié)果的準(zhǔn)確性和設(shè)備的穩(wěn)定性，其微振控制成為了一個至關(guān)重要的因素。VC微振等級判定就是衡量防震臺抗震和微振能力的重要指標(biāo)之一。本文將圍繞它的VC微振等級判定進(jìn)行探討，分析其原理、方法以及應(yīng)用。1.VC微振等級的定義與作用VC（VibrationControl）微振等級是指防震臺在工作過程中，對于微振的抑制能力。微振是指在較低頻率范圍內(nèi)的微小震動，通常頻率在1Hz到200Hz之間。對于某些高精度儀器和實驗
2024
11-01

動態(tài)激光干涉儀的應(yīng)用及作用
動態(tài)激光干涉儀是一種高精度的光學(xué)測量儀器，主要用于測量光學(xué)元件的表面形貌、材料的熱膨脹系數(shù)、機(jī)械應(yīng)力場等。該儀器基于干涉原理，通過激光光束的干涉效應(yīng)來實現(xiàn)對被測對象的測量和分析。它廣泛應(yīng)用于工業(yè)生產(chǎn)、科學(xué)研究、醫(yī)學(xué)診斷等領(lǐng)域，具有高精度、快速、非接觸等優(yōu)點。1.在工業(yè)生產(chǎn)中，動態(tài)激光干涉儀可以用于檢測光學(xué)元件的表面平整度、曲率半徑、波前畸變等參數(shù)。通過對光學(xué)元件的表面形貌進(jìn)行測量和分析，可以有效地控制生產(chǎn)過程，提高產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。此外，儀器還可以用于檢測機(jī)械零件的形狀和尺寸，實現(xiàn)對工件的精密加
2024
11-01

如何選購一款合適的晶圓水平儀
晶圓水平儀是一種用于測量和調(diào)整晶圓表面平整度的重要設(shè)備，在半導(dǎo)體制造、光學(xué)元件生產(chǎn)等領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用。以下是詳細(xì)的選購要點描述：1.精度要求-測量精度：晶圓水平儀的核心指標(biāo)是其測量精度。高精度的晶圓水平儀能夠提供更準(zhǔn)確的平整度數(shù)據(jù)，對于半導(dǎo)體制造等對精度要求很高的領(lǐng)域尤為重要。在選擇時，需要根據(jù)實際應(yīng)用場景確定所需的測量精度，并選擇滿足該精度要求的晶圓水平儀。-重復(fù)性：除了測量精度外，晶圓水平儀的重復(fù)性也是一個重要的考慮因素。良好的重復(fù)性意味著在多次測量中，晶圓水平儀能夠提供穩(wěn)定且一致的測量結(jié)
2024
10-09

電容式位移傳感器的校準(zhǔn)流程
電容式位移傳感器是一種基于電容原理工作的精密測量儀器，廣泛應(yīng)用于各種工業(yè)領(lǐng)域，如振動監(jiān)測、距離測量、液位檢測等。由于其高精度和快速響應(yīng)的特點，電容式位移傳感器在校準(zhǔn)過程中需要特別細(xì)致和精確。以下是關(guān)于電容式位移傳感器的校準(zhǔn)方式的描述：一、校準(zhǔn)前的準(zhǔn)備工作1.了解傳感器規(guī)格：在開始校準(zhǔn)之前，首先需要詳細(xì)了解電容式位移傳感器的技術(shù)規(guī)格，包括測量范圍、靈敏度、線性度、重復(fù)性等關(guān)鍵參數(shù)。這些信息將有助于確定校準(zhǔn)的具體步驟和方法。2.準(zhǔn)備標(biāo)準(zhǔn)器具：為了進(jìn)行準(zhǔn)確的校準(zhǔn)，需要準(zhǔn)備一些高精度的標(biāo)準(zhǔn)器具，如標(biāo)準(zhǔn)尺
2024
09-04

光學(xué)粗糙度測試儀的養(yǎng)護(hù)有哪些要點
光學(xué)粗糙度測試儀是一種用于測量材料表面粗糙度的精密儀器，其準(zhǔn)確性和穩(wěn)定性對于保障產(chǎn)品質(zhì)量至關(guān)重要。以下是關(guān)于光學(xué)粗糙度測試儀養(yǎng)護(hù)方式的相關(guān)描述：1.環(huán)境要求：光學(xué)粗糙度測試儀應(yīng)放置在無塵、恒溫恒濕的環(huán)境中。溫度和濕度的波動會影響儀器的測量精度，因此應(yīng)盡量保持環(huán)境的穩(wěn)定。此外，儀器應(yīng)遠(yuǎn)離振動源和磁場，以防止對測量結(jié)果的干擾。2.清潔維護(hù)：定期對儀器進(jìn)行清潔，特別是在測量過程中可能會有灰塵或雜質(zhì)附著在儀器的關(guān)鍵部件上。使用無塵布或?qū)Ｓ们鍧嵐ぞ?，輕輕擦拭儀器的表面和鏡頭，以保持其清潔。3.光源維護(hù)：光
2024
08-06

操作白光干涉儀的正確方式有幾點
白光干涉儀是一種利用白光干涉原理進(jìn)行高精度測量的儀器，廣泛應(yīng)用于光學(xué)元件、半導(dǎo)體材料、金屬材料等的微觀形貌和膜層厚度測量。為了確保白光干涉儀的測量準(zhǔn)確性和設(shè)備穩(wěn)定性，以下是一些使用注意事項：1.環(huán)境條件：白光干涉儀對環(huán)境條件有較高的要求。首先，溫度和濕度應(yīng)盡量保持穩(wěn)定，因為溫度和濕度的變化會影響光路的長度和折射率，從而影響測量結(jié)果。其次，應(yīng)避免在有振動和沖擊的環(huán)境中使用，因為振動和沖擊會干擾儀器的穩(wěn)定性。此外，還應(yīng)避免在有塵埃和化學(xué)腐蝕氣體的環(huán)境中使用，因為這些因素會影響儀器的清潔度和光學(xué)元件的
2024
07-11

薄膜應(yīng)力測試儀的結(jié)果受到哪些因素影響
薄膜應(yīng)力測試儀是一種用于測量薄膜材料內(nèi)部應(yīng)力的儀器。這種應(yīng)力對于薄膜的性能和可靠性具有重要影響，因此準(zhǔn)確測量薄膜應(yīng)力是非常重要的。然而，薄膜應(yīng)力測試儀的結(jié)果可能會受到多種因素的影響。以下是一些可能影響薄膜應(yīng)力測試儀結(jié)果的因素：1.薄膜材料的均勻性：薄膜材料的均勻性直接影響到應(yīng)力測試的結(jié)果。如果薄膜材料的厚度、成分或微觀結(jié)構(gòu)不均勻，那么在不同位置測量的應(yīng)力可能會有顯著差異。因此，保證薄膜材料的均勻性是獲取準(zhǔn)確應(yīng)力測試結(jié)果的前提。2.樣品制備：樣品的制備過程也會影響應(yīng)力測試的結(jié)果。例如，如果樣品在制
2024
06-14

紅外激光測厚儀的結(jié)果受到哪些方面影響
紅外激光測厚儀是一種使用激光技術(shù)對材料厚度進(jìn)行無損檢測的儀器。它通過測量激光在材料中的傳播時間或相位變化來確定材料的厚度。盡管紅外激光測厚儀具有高精度和高重復(fù)性，但其測量結(jié)果仍可能受到多種因素的影響。以下是一些影響因素的描述：1.材料的表面狀態(tài)：材料表面的粗糙度、氧化層、涂層或污染可能會影響激光的反射和吸收特性，進(jìn)而影響測量準(zhǔn)確性。光滑且清潔的表面通?？梢垣@得更可靠的測量結(jié)果。2.溫度：溫度的變化會影響材料的密度和聲速，從而影響激光的傳播速度。高溫可能導(dǎo)致材料膨脹，而低溫可能導(dǎo)致收縮，這都可能引

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