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PECVD等離子沉積設(shè)備PX 1907
帶預(yù)真空室的化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 1907
等離子沉積設(shè)備PX 1907
QBT-T雙腔體高真空等離子體原子層沉積系統(tǒng)PX 3125
Mini Desktop ALDPALD廠家PX 3125
GM10/100/1000粉末ALD廠家PX 3125
Mini DesktopALDPX 3125
GM10/100/1000原子層沉積設(shè)備廠家PX 3125
Mini Desktop ALD原子層沉積系統(tǒng)廠家PX 3125
Mini Desktop ALD桌面式原子層沉積系統(tǒng)PX 3125
GM10/100/1000粉末原子層沉積PX 3125
QBT-T等離子體原子層沉積PX 3125
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備PX 3149
NLD-4000(ICPM)PEALD系統(tǒng)PX 3149
NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統(tǒng)PX 3149
NLD-3500(A)全自動原子層沉積設(shè)備PX 3149
NLD-3500(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 3149
NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)PX 3149
NLD-4000(M)原子層沉積系統(tǒng)PX 3149
NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-4000(ICPA)全自動ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-4000(ICPM)ICPECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-4000(A)全自動PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-4000(M)PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
PE-CVD維意真空等離子增強化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備PX 0
T-ALD維意真空ALD原子層沉積鍍膜設(shè)備支持定制PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學(xué)氣相沉積PX 0
Partector 2納米顆粒探測器-氣溶膠設(shè)備(德國)PX 2924
磁控濺射鍍膜機PX 2924
微波等離子體輔助原子層沉積系統(tǒng)PX 0
超高真空磁控濺射鍍膜系統(tǒng)PX 2924
KVT電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)PX 2924
金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備PX 2924
超高真空多腔室物理氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2924
等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2924
等離子體增強原子層沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2924
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
Angstrom物理沉積系統(tǒng)
Veeco分子束外延
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
BENEQ原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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