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金屬有機化學氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD)PX 2924
PECVD+RIE等離子體增強化學氣相沉積設(shè)備PX 2924
Sputter-2000W生產(chǎn)型 TGV TSV TMV 高真空磁控濺射鍍膜機PX 0
Mini E-Beam Evaporator小型電子束蒸發(fā)器PX 2265
Nikalyte NL-UHV超高真空納米顆粒沉積源PX 2265
Nikalyte NL-FLEX物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2265
Nikalyte NEXUS物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2265
Nikalyte NL-Cube物理氣相沉積系統(tǒng)PX 2265
Nikalyte NL-50磁控濺射儀PX 2265
CVD化學氣相沉積設(shè)備PX 3758
FL-800N低溫化學氣相沉積冷卻系統(tǒng)-試驗用冷水機PX 7014
非標定制熱絲法化學氣相沉積CVD金剛石PX 0
非標定制等離子體增強化學氣相沉積 PECVDPX 0
生產(chǎn)型 磁控濺射/離子輔助/多弧復合鍍膜機PX 0
PVD-1000B系列生產(chǎn)型磁控濺射及離子輔助復合鍍膜機PX 0
FPKOR-HEX-PVD臺式薄膜沉積系統(tǒng)PVD系統(tǒng)PX 3163
FPANR-AT410ALD系統(tǒng),原子層沉積設(shè)備PX 3194
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 4038
CY-PECVD100-1200-QCVD化學氣相沉積系統(tǒng)PX 4038
CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學氣相沉積設(shè)備PX 4038
FPSEM-STE-MS900磁控濺射物理氣相沉積PVD系統(tǒng)PX 3194
FPSEM-ICP200D等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)PX 3194
FPANG-COVAPCOVAP物理氣相沉積系統(tǒng),PVD系統(tǒng)PX 3194
FPANG-AMOD物理氣相沉積平臺PVD,濺射,電子束蒸發(fā)PX 3194
FPTOR-IBD離子束沉積系統(tǒng),離子shu沉積濺射鍍膜PX 3194
uGmni-200/300日本ULVAC愛發(fā)科半導體濺射設(shè)備單晶圓復合PX 5115
CME-200E/400日本ULVAC愛發(fā)科半導設(shè)備化學氣相沉積設(shè)備PX 5115
SV-200 SV-4540 SV-6040日本ULVAC愛發(fā)科大型設(shè)備濺射SV-9045PX 5115
PICOSUN R-200標準型ALD系統(tǒng)PX 1782
CVTD 材料氣相輸運與沉積系統(tǒng)PX 1782
原子團簇束流系統(tǒng)桌面式PX 0
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 500 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:外延系統(tǒng);MBE分子束外延德國PX 3570
德國MBE 分子束外延系統(tǒng)OCTOPLUS 400 產(chǎn)品關(guān)鍵詞:mbe產(chǎn)品;mbe一臺;mbe分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng);分子束外延系統(tǒng)(mbe)彩頁;分子束mbe;mbe系統(tǒng);mbe分子束...PX 3570
PICOSUN ALD R-300PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-300高級版PX 3290
PICOSUN ALD原子層沉積系統(tǒng)PX 3290
ALD R-200 ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)-高級版PX 3290
ALD R-200PICOSUN原子層沉積系統(tǒng)ALD R-200基礎(chǔ)版PX 3290
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3290
BTF-1200C-SL-A等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)PX 0
便攜式樣品傳送腔體PX 4184
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導體行業(yè)儀器設(shè)備
低壓化學氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
Angstrom物理沉積系統(tǒng)
Veeco分子束外延
Beneq原子層沉積系統(tǒng)
BENEQ原子層沉積系統(tǒng)
原子層沉積系統(tǒng)
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
真空等離子體涂覆薄膜沉積設(shè)備
日本ULVAC愛發(fā)科半導體化學氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學氣相沉積CVD系統(tǒng)
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