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NPE-3500 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
NPE-3000 PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3149
PE-CVD維意真空等離子增強化學(xué)氣相沉積鍍膜設(shè)備PX 0
WBMW-QXCJ4任氏巨源實驗室常用微波化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 0
WBMW-DLZ3巨源實驗室常用微波等離子體化學(xué)氣相沉積PX 0
等離子體增強化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)PX 2924
金屬有機化學(xué)氣相沉積鍍膜系統(tǒng)(MOCVD)PX 2924
PECVD+RIE等離子體增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 2924
CVD化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 3758
非標定制熱絲法化學(xué)氣相沉積CVD金剛石PX 0
非標定制等離子體增強化學(xué)氣相沉積 PECVDPX 0
CY-PECVD100-1200-QPECVD氣相沉積PX 4038
CY-PECVD100-1200-QCVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 4038
CY-PECVD-240T-SS等離子增強化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 4038
CME-200E/400日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)設(shè)備化學(xué)氣相沉積設(shè)備PX 5115
ICP-500DICP等離子沉積系統(tǒng)-SI 500DPX 3290
BTF-1200C-SL-A等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)PX 0
BTF-1200C-S-PECVD微型PECVD系統(tǒng)管式爐PX 0
MFC-5ZCVD化學(xué)氣相沉積多通道質(zhì)量流量控制系統(tǒng)PX 3758
CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 3758
PECVD-601/801/1201化學(xué)氣相沉積(PECVD)PX 0
PECVD-500A-D智能型PECVD系統(tǒng)(含壓力控制系統(tǒng))PX 0
scrubber全類型尾氣處理設(shè)備-scrubberPX 0
非標定制化學(xué)氣相沉積LPCVDPX 0
PlasmaPro 80 PECVDPX 0
PlasmaPro 800 PECVDPX 0
PlasmaPro 80 ICPCVDPX 0
PlasmaPro 100 PECVDPX 0
PlasmaPro 1000PX 0
PlasmaPro 100 ICPCVDPX 0
熱絲CVD PC-005熱絲CVD金剛石設(shè)備PX 0
PECVD設(shè)備 PC-006PECVD設(shè)備PX 0
LPCVD設(shè)備 PC-007LPCVD設(shè)備PX 0
MOCVD設(shè)備 PC-008MOCVD設(shè)備PX 0
FPCHE-CVD獨立式化學(xué)氣相沉積(CVD)系統(tǒng)PX 3194
HMPS-2060SP微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MPCVD爐PX 0
GKD-CVD薄膜材料制備化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) CVD爐PX 0
CVD氣相沉積系統(tǒng) 化學(xué)氣相 沉積爐PX 0
1200℃ CVD化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)單晶制備管式爐PX 0
DH-30-700大華CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機PX 0
薄膜生長設(shè)備
工藝測量和檢測設(shè)備
集成電路測試與分選設(shè)備
光刻及涂膠顯影設(shè)備
熱工藝設(shè)備/熱處理設(shè)備
硅片制備/晶體生長設(shè)備
掩模版和中間掩模版制造設(shè)備
離子注入設(shè)備
干法工藝設(shè)備
濕法工藝設(shè)備
組裝與封裝設(shè)備
其它半導(dǎo)體行業(yè)儀器設(shè)備
低壓化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)LPCVD
等離子Parylene派瑞林鍍膜集成系統(tǒng)
旋轉(zhuǎn)鼓式parylene派瑞林真空鍍膜設(shè)備
進口parylene派瑞林鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene真空鍍膜設(shè)備
派瑞林parylene鍍膜設(shè)備
Parylene派瑞林真空鍍膜機
Parylene派瑞林鍍膜機
日本ULVAC愛發(fā)科半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備
等離子增加化學(xué)氣相沉積CVD系統(tǒng)
上海衡平儀器儀表有限公司
賽默飛色譜及質(zhì)譜
上海平軒科學(xué)儀器有限公司
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