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原子層沉積ALD
Kurt J. Lesker Company （KJLC） ALD150LX™是一種原子層沉積ALD 系統(tǒng)，專為高級研發(fā) （R&D）應(yīng)用而設(shè)計。創(chuàng)...
型號： ALD-150LX... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 13:01:42 對比

原子層沉積ALD ALD-150LX™KURT.J.LESKER
探針臺
CM300xi 探針臺可應(yīng)對極其復雜的環(huán)境帶來的測量挑戰(zhàn)，例如在長時間和多種溫度下在小焊盤上進行無人值守的測試。在 EMI 屏蔽、光密和無濕氣的測試環(huán)境中，為各...
型號： CM300xi型所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:59:49 對比

探針臺光電測試 CM300xi型 Formfactor 探針臺
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
概述針對有機材料沉積進行了優(yōu)化多達 12 個 LTE 信號源;1cc、10cc或35cc容量主體與摻雜劑比 1000：1多達 4 個熱蒸發(fā)源基板快門自動基板、掩...
型號： Super-SPE... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:58:02 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER Super-SPECTROS™ 200 有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company 的有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)和金屬 SPECTROS™ 150 是基于主力 SPECTROS 平臺的下一...
型號： SPECTROS&... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:55:59 對比

薄膜沉積 KURT.J.LESKER SPECTROS™ 150 有機薄膜沉積和金屬化系統(tǒng)
沉積和金屬化系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company Mini SPECTROS™是基于主力SPECTROS平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。SPECTROS平臺在...
型號： Mini SPEC... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:54:11 對比

沉積和金屬化系統(tǒng)KURT.J.LESKER Mini SPECTROS
探針臺
SUMMIT200探針臺專為研發(fā)、設(shè)備表征/建模或利基生產(chǎn)應(yīng)用而設(shè)計，可在超低噪聲、直流、射頻、毫米波和太赫茲應(yīng)用中進行溫度范圍內(nèi)的精確電氣測量，具有半自動和現(xiàn)...
型號： SUMMIT200 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:51:45 對比

探針臺光電測試 Formfactor SUMMIT200
濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適...
型號： NANO 36&t... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:49:21 對比

薄膜沉積 NANO 36™KURT.J.LESKER 濺射或熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)
探針臺
入門級手動探針臺，用于表面耦合和水平邊緣耦合FormFactor推出了一種具有成本效益的硅光子學測量解決方案，以支持新興應(yīng)用的基礎(chǔ)研究工作。該系統(tǒng)的設(shè)計是For...
型號： MPS150-Si... 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:47:49 對比

探針臺手動 Formfactor MPS150-SiPh
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備CMS系列極其強大的優(yōu)良研究工具設(shè)計用于適應(yīng)特定的薄膜應(yīng)用，如 GMR、CMS、半導體、納米級器件、光子學和光伏系統(tǒng)設(shè)計可以配置為真正的超高真...
型號： CMS系列所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:45:48 對比

鍍膜 KURT.J.LESKER CMS系列電子束蒸發(fā)鍍膜設(shè)備
磁控濺射鍍膜設(shè)備
Kurt J. Lesker Company LAB Line UHV 磁控濺射鍍膜設(shè)備專為磁控濺射沉積應(yīng)用而設(shè)計。為滿足 UHV 濺射工藝需求而定制的腔室設(shè)計...
型號： LAB Line 所在地：美國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:43:37 對比

磁控濺射磁控濺射鍍膜設(shè)備 LAB Line KURT.J.LESKER
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 200 多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺是一種模塊化、功能齊全的薄膜沉積系統(tǒng)，可實現(xiàn) ...
型號： PRO Line ... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:41:17 對比

物理氣相沉積 PRO Line PVD 200 KURT.J.LESKER
CT系統(tǒng)
CT系統(tǒng)CA20用于先進封裝的亞微米3DX射線，CA20旨在以最高分辨率提供2D和3D圖像，它允許對微米級細節(jié)進行最快的檢測，并有助于縮短復雜3D IC的上市時...
型號： CA20型所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:39:34 對比

工業(yè)CT 缺陷檢查 CA20型
CT系統(tǒng)
CC系列CT系統(tǒng)亮點?可靠、快速、可重復的檢測 - 手動和自動?使用 VoidInspect 自動計算空隙?易于使用的動態(tài)增強濾鏡，例如 eHDR?使用 mic...
型號： CC系列所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:37:48 對比

工業(yè)CT 缺陷檢測 Yxlon CC系列
CT系統(tǒng)
無論是大型電機缸體、大型鋼制部件還是復雜的電動汽車部件，Comet Yxlon UX50 CT 系統(tǒng)都能在創(chuàng)紀錄的時間內(nèi)掃描具挑戰(zhàn)性的物品。UX50 在線和平板...
型號： UX系列所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:36:01 對比

工業(yè)CT 缺陷檢查
CT系統(tǒng)
Comet Yxlon開發(fā)了CTScan 3線探測器陣列（LDA），以滿足客戶的特殊要求和具有挑戰(zhàn)性的應(yīng)用。憑借其前未有的信噪比、動態(tài)范圍和 254 μm 的像...
型號： FF系列所在地：德國參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:34:21 對比

缺陷檢查 CT掃描
高級研磨機
使用 Veeco 的 Optium® ASL 200™ 研磨系統(tǒng)實現(xiàn)更高水平的控制和 TFMH 工藝產(chǎn)量。這種高精度硬盤頭研磨系統(tǒng)可大程度...
型號： Optium AS... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:32:40 對比

研磨機晶圓研磨
Optium 劃片機
Veeco 在多元化切割應(yīng)用方面擁有 30 多年的經(jīng)驗，提供廣泛的工藝和工具設(shè)計解決方案，可以提高產(chǎn)量并帶來更高的產(chǎn)量和質(zhì)量。
型號： Optium AD... 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:30:30 對比

半導體封裝劃片
多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺
Kurt J. Lesker Company PRO Line PVD 75 是基于主力 PVD 75多功能濺射、電子束和熱蒸發(fā)沉積平臺的下一代薄膜沉積系統(tǒng)。P...
型號： PRO Line ... 所在地：深圳市參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:28:40 對比

PVD 濺射電子束熱蒸發(fā)沉積
物理氣相沉積PVD
Veeco 的單靶點 NEXUS PVDi 物理氣相沉積系統(tǒng)為各種薄膜沉積應(yīng)用提供了最大的靈活性。NEXUS PVD 的加工精度為 200 毫米，具有先進的工藝...
型號： NEXUS 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:26:11 對比

物理氣相沉積 PVD 薄膜沉積
等離子增強原子層沉積PEALD
我們的 Fiji® 系列是一種模塊化、高真空熱原子層沉積系統(tǒng)，采用靈活的架構(gòu)和多種前驅(qū)體和等離子體氣體配置，可適應(yīng)各種沉積模式。Fiji G2 是下一...
型號： Fiji 所在地：國外參考價：面議更新時間：2025/6/6 12:24:18 對比

等離子增強原子層沉積 PEALD 薄膜沉積

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