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KS-S300-SP12寸噴霧式涂膠機(jī)PX 1950
KS-M300涂膠顯影半自動(dòng)機(jī)臺(tái)PX 1950
KS-S150星型全自動(dòng)涂膠顯影機(jī)PX 1950
KS-FT200/300 前道8/12寸涂膠顯影機(jī)PX 1950
捷尼賽思原子層沉積PX 1950
貝內(nèi)克 C2R超快速、高精度空間原子層沉積鍍膜PX 1950
TFS 500原子層沉積研究設(shè)備PX 1950
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Beneq 轉(zhuǎn)換原子層沉積PX 1950
Beneq ProdigyALDPX 1950
Beneq Transform® 300ALDPX 1950
G10-碳化硅碳化硅沉積系統(tǒng)PX 1950
CCS系統(tǒng)化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5+ C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX G5 WW C化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
AIX 2800G4-TM化合物半導(dǎo)體沉積系統(tǒng)PX 1950
MOCVD金屬有機(jī)源氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Cluster PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PECVD高真空等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相薄膜沉積PX 1950
EB700高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
ALD原子層沉積緊湊、經(jīng)濟(jì)型PX 1732
EB900高真空電子束蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZS500高真空電子束及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZ450高真空熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
DZ350高真空有機(jī)及熱阻蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
LMBE450超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP560高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
JGP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
代理德國(guó)EMIL OTTO免清洗電子助焊劑PX 2294
PC450高真空磁控濺射粉末顆粒表面薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
TRP450高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
線列式磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
SMART磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD500高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
PVD400高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)PX 1950
Etchlab 200開蓋等離子蝕刻系統(tǒng)PX 1950
SENTECH SILAYOPEARD系統(tǒng)PX 1950
分析儀器
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SPIN450x 高質(zhì)量基底旋涂機(jī)
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山本鍍金YAMAMOTO-MS 攪拌電鍍赫爾槽
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自動(dòng)顯影勻膠機(jī)
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