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NA-1300系列去膠設(shè)備PX 1950
IH-860DSICSiC用高溫離子注入設(shè)備PX 1950
IMX-3500離子注入設(shè)備PX 1950
SOPHI-400離子注入設(shè)備PX 1950
SOPHI-30離子注入設(shè)備PX 1950
PFS系列活性化退火設(shè)備PX 1950
RIE-1C緊湊型刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-300NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-200CRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-200NLRIE等離子刻蝕系統(tǒng)PX 1950
RIE-800iP等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-10NRRIE等離子刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-230iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-230iPC等離子體(ICP) 刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-400iP等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-350iPC等離子體(ICP)刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800iPC等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-400iPB深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800iPB電感耦合等離子體刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-800BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
RIE-802BCT深硅刻蝕設(shè)備PX 1950
PD-100ST等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-330STC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-270STLC等離子體增強CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-200STL等離子體增強型CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-220N化學(xué)氣相沉積等離子體CVD系統(tǒng)PX 1950
PD-3800L化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
PD-220NL化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 系統(tǒng)PX 1950
AL-1無針孔薄膜沉積設(shè)備PX 1950
PD-2201LC化學(xué)氣相沉積 (PECVD) 設(shè)備PX 1950
JP-180V/JP-180H原裝 中國臺灣KAWAKE靜音真空泵貼片機泵PX 3470
ELEDE® 380系列芯片刻蝕機PX 1950
THEORIS A302L12英寸立式低溫退火爐PX 1950
Orion Proxima高密度等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列12英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
Polaris系列8英寸 通用物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
eVictor Al PVD鋁物理氣相沉積系統(tǒng)PX 1950
GDE C200系列高密度 刻蝕機PX 1950
NMC 508系列ICP 刻蝕機PX 1950
NMC 612G12英寸金屬刻蝕機PX 1950
分析儀器
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SPIN450x 高質(zhì)量基底旋涂機
SPIN300x 高質(zhì)量基底旋涂機
SPIN200x 高質(zhì)量基底旋涂機
SPIN150x 高質(zhì)量基底旋涂機
700系列 半導(dǎo)體開關(guān)矩陣主機
2600-PCT-xB 參數(shù)曲線跟蹤儀配置
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薄膜表面應(yīng)力儀
山本鍍金YAMAMOTO-MS 攪拌電鍍赫爾槽
等離子表面處理機/清洗機
微波等離子去膠機
自動顯影勻膠機
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